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J-GLOBAL ID：201702211469576785   整理番号：17A0469877

その化学組成と電気化学的活性に及ぼす窒素雰囲気におけるSi/reducedグラフェン酸化物ナノハイブリッドの熱処理の影響【Powered by NICT】

The influence of a thermal treatment of Si/reduced graphene oxide nano-hybrid in a nitrogen atmosphere on its chemical composition and electrochemical activity

著者 (2件)： Kierzek Krzysztof (Wroclaw University of Technology, Faculty of Chemistry, Department of Polymer and Carbonaceous Materials, Gdanska 7/9, 50-344 Wroclaw, Poland) ,  Gryglewicz Grazyna (Wroclaw University of Technology, Faculty of Chemistry, Department of Polymer and Carbonaceous Materials, Gdanska 7/9, 50-344 Wroclaw, Poland)
資料名： Journal of Physics and Chemistry of Solids  (Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻： 104  ページ： 117-123  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0202A  ISSN： 0022-3697  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,800 1100°Cの温度範囲で窒素気流中Si/reducedグラフェン酸化物(rGO)ナノハイブリッドの熱処理中のシリコンの変換反応について検討した。ナノハイブリッドは,アノード材料として使用した場合,Si/rGOナノハイブリッド中の元素Si含有量の漸減がLiイオン電池の電気化学容量の減衰により反映された。熱処理Si/rGO試料は結晶相を同定するためにX線回折を用いて特性化した。X線光電子分光法は,非晶質生成物を決定するために適用した。酸化けい素の形成は800°Cで観察された。窒素ガスとの反応により1100°Cで形成された窒化けい素およびシリコンオキシナイトライド。窒素原子はピリジンとピロール基としてrGO構造に導入した。非常に少量の炭化けい素のが検出された。元素シリコン中の酸化の高度は,rGO派生酸素との反応によって説明された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： キャラクタリゼーション ,  *化学組成 ,  X線光電子分光法 ,  窒化ケイ素 ,  *電気化学 ,  炭化ケイ素 ,  リチウム ,  *窒素 ,  X線回折 ,  ケイ素 ,  窒素複素環化合物
準シソーラス用語： 負極材料 ,  *酸化グラフェン ,  *ナノハイブリッド , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 還元された酸化グラフェン ,  シリコン ,  複合材料 ,  Liイオン電池 ,  窒化けい素

分類 (4件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  半導体薄膜  (BK14040E) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (2件)： ピロール ,  ピリジン

タイトルに関連する用語 (8件)： 化学組成 ,  電気化学 ,  活性 ,  窒素雰囲気 ,  Si ,  グラフェン酸化物 ,  ナノハイブリッド ,  熱処理