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J-GLOBAL ID：201702212030858362   整理番号：17A1398099

滑り電解加工法による炭化タングステンマイクロフィンの作製【Powered by NICT】

Fabrication of tungsten carbide micro fins by sliding ECM

著者 (3件)： Yang Po-Zen (Department of Mechanical and Computer-Aided Engineering, Feng Chia University, Taichung 40724, Taiwan) ,  Hung Jung-Chou (Department of Mechanical and Computer-Aided Engineering, Feng Chia University, Taichung 40724, Taiwan) ,  Cheng Chia-Wei (SFR Business UNI, Intai Technology Corp., Taichung 408, Taiwan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： ICMAE  ページ： 136-139  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電気化学的加工(ECM)は,その微細な表面品質と非残留応力加工後に残存するためのミクロスケール生成物を処理するための優れた方法である。本研究では,炭化タングステンマイクロフィンを作製するために滑り電気化学加工(SECM)法を提案した。法は,予め加工した炭化タングステンフィンを薄くマイクロスケールに期待された。従来のECMプロセスの間,偏光は,特にミクロスケール製品のための主要な問題と考えられてきた,結果はしばしば電解質リフレッシュ,濃度分極を起こすを混雑解消。急速滑り工作物とパルス電源の適用により,実験した濃度分極を最小化し,大規模迷走電流効果を低減し,最終的にマイクロフィン製造を達成することができた。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 高速度 ,  表面性状 ,  偏光 ,  *電解加工 ,  工作物 ,  残留応力 ,  電解質 ,  *炭化タングステン ,  *フィン
準シソーラス用語： 迷走電流 ,  パルス電源 ,  濃度分極 ,  マイクロスケール ,  *マイクロフィン , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 特殊加工  (QC04000Y)

タイトルに関連する用語 (5件)： 滑り ,  電解加工法 ,  炭化タングステン ,  マイクロフィン ,  作製