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J-GLOBAL ID：201702212317351615   整理番号：17A0615348

シリコン球上にコーティングしたフッ素をドープした酸化スズ反射防止膜に対する熱処理の影響

Effects of heat treatment on fluorine-doped tin oxide anti-reflection films coated on silicon spheres

著者 (4件)： SHIRAHATA Yasuhiro (Department of Materials Science, The University of Shiga Prefecture) ,  OKU Takeo (Department of Materials Science, The University of Shiga Prefecture) ,  KANAMORI Youichi (Clean Venture 21 Corporation) ,  MUROZONO Mikio (Clean Venture 21 Corporation)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan (Web)  (Journal of the Ceramic Society of Japan (Web))
巻： 125  号： 3  ページ： 145-149(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： U0409A  ISSN： 1348-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリコン球の表面にコーティングしたフッ素をドープした酸化スズ(SnO_x:F_y)反射防止膜について,SnO_x:F_y膜の微細構造と光学特性に対する熱処理効果を明確にするために調べた。SnO_x:F_y膜の格子定数,結晶子の大きさ及びバンドギャップは熱処理温度と時間の両方に依存した。SnO_x:F_y膜の蛍光スペクトルは膜の点欠陥に関連するブロードな発光ピークを示した。これらの結果はSnO_x:F_y結晶におけるOとF含有量の熱処理条件への依存性に起因した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ケイ素 ,  球 ,  セラミック被覆 ,  *酸化スズ ,  *フッ素 ,  *ドーピング ,  *反射防止膜 ,  微細構造 ,  結晶粒径 ,  *バンドギャップ ,  *熱処理 ,  酸化膜 ,  *セラミック膜 ,  *発光
準シソーラス用語： シリコン ,  フッ素ドープ酸化スズ ,  結晶子径 ,  酸化物膜

著者キーワード (4件)： Tin oxide ,  Fluorine ,  Annealing ,  Spherical silicon

分類 (4件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光の屈折,反射,分散,偏向,吸収,透過  (BD03020B) ,  半導体のルミネセンス  (BM08092S)

引用文献 (44件)：

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• 2) Z. Liu, A. Masuda, T. Nagai, T. Miyazaki, M. Takano, M. Takano, H. Yoshigahara, K. Sakai, K. Asai and M. Kondo, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 91, 1805–1810 (2007).
• 3) C. Candelise, M. Winskel and R. J. K. Gross, Renuw. Sust. Energ. Rev., 26, 96–107 (2013).
• 4) W. R. Mckee, IEEE Trans. Components, Hybrid, Manuf. Technol., 5, 336–341 (1983).
• 5) T. Maruyama and H. Minami, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 79, 113–124 (2003).

タイトルに関連する用語 (7件)： シリコン ,  コーティング ,  フッ素 ,  ドープ ,  酸化スズ ,  反射防止膜 ,  熱処理