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J-GLOBAL ID：201702212595155946   整理番号：17A1493521

小有機分子の増強された低減のためのほう素をドープしたダイヤモンド電極上での金ナノ粒子の電着【Powered by NICT】

Electrodeposition of gold nanoparticles on boron doped diamond electrodes for the enhanced reduction of small organic molecules

著者 (2件)： Bottari F. (AXES Research Group, University of Antwerp, Groenenborgerlaan 171, B-2010 Antwerp, Belgium) ,  De Wael K. (AXES Research Group, University of Antwerp, Groenenborgerlaan 171, B-2010 Antwerp, Belgium)
資料名： Journal of Electroanalytical Chemistry  (Journal of Electroanalytical Chemistry)
巻： 801  ページ： 521-526  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0037A  ISSN： 1572-6657  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホウ素ドープダイヤモンド(BDD)電極上に電着した金ナノ粒子の性能はクロラムフェニコール(CAP),フェニコールファミリーの抗生物質の低減に着目して調査した。三核形成成長パルス,選択された堆積プロトコルは顕著な表面被覆率を示し,平均サイズの金粒子(50nm)の均一な分布と,CAP還元電流の3倍の増加を発生させることができるが分かった。CAP検出のための較正プロットは良好な相関係数(0.9959)と裸のBDD電極でのCAPの電気化学と比較して0.053μAμM~ 1mm~ 2の改善された感度とマイクロモル範囲(5 35μM)で得られた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 相関係数 ,  抗生物質 ,  表面被覆 ,  電気化学 ,  核形成 ,  *ホウ素 ,  *電着 ,  *ダイヤモンド ,  *ドーピング ,  プロトコル
準シソーラス用語： 還元電流 ,  金粒子 ,  ボロンドープダイヤモンド ,  *金ナノ粒子 ,  *ダイヤモンド電極 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ほう素ドープしたダイヤモンド ,  金ナノ粒子 ,  電着 ,  クロラムフェニコール

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  電極過程  (CB07040U)

タイトルに関連する用語 (7件)： 有機分子 ,  増強 ,  ほう素 ,  ドープ ,  ダイヤモンド電極 ,  金ナノ粒子 ,  電着