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J-GLOBAL ID：201702213302397415   整理番号：17A0539821

数層グラフェンダイヤモンドナノロッドハイブリッドのプラズマ照射特性の増強

Enhancement of plasma illumination characteristics of few-layer graphene-diamond nanorods hybrid

著者 (13件)： SANKARAN Kamatchi Jothiramalingam (Hasselt Univ., Diepenbeek, BEL) ,  SANKARAN Kamatchi Jothiramalingam (IMOMEC, Diepenbeek, BEL) ,  YEH Chien-Jui (National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN) ,  DRIJKONINGEN Sien (Hasselt Univ., Diepenbeek, BEL) ,  DRIJKONINGEN Sien (IMOMEC, Diepenbeek, BEL) ,  POBEDINSKAS Paulius (Hasselt Univ., Diepenbeek, BEL) ,  POBEDINSKAS Paulius (IMOMEC, Diepenbeek, BEL) ,  VAN BAEL Marlies K (Hasselt Univ., Diepenbeek, BEL) ,  VAN BAEL Marlies K (IMOMEC, Diepenbeek, BEL) ,  LEOU Keh-Chyang (National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN) ,  LIN I-Nan (Tamkang Univ., Tamsui, TWN) ,  HAENEN Ken (Hasselt Univ., Diepenbeek, BEL) ,  HAENEN Ken (IMOMEC, Diepenbeek, BEL)
資料名： Nanotechnology  (Nanotechnology)
巻： 28  号： 6  ページ： 065701,1-9  発行年： 2017年02月10日 
JST資料番号： W0108A  ISSN： 0957-4484  CODEN： NNOTER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 数層グラフェン(FLG)は優れた電界電子放出(FEE)挙動をもつ。また強い共有結合炭素構造であるダイヤモンド構造は負電子親和性をもち,その水素末端は高寿命と信頼性をもつ電界電子源である。本稿では,FLGを高温焼なまし過程により垂直配列ダイヤモンドナノロッド(DNR)上に形成した。DNR上の4~5層のFLGの存在を透過型電子顕微鏡研究により確認した。それはDNRの電界電子放出(FEE)挙動を増強させた。FLG-DNRは4.21Vμm^-1の低ターンオン場と3480の大場増強因子をもつ優れたFEE特性を示した。さらに,FLG-DNRをカソードとして用いたマイクロプラズマ素子のプラズマ照射挙動が増強され,すなわち,プラズマ電流密度が増加し,素子のロバスト性も改良された。

シソーラス用語： *グラフェン ,  *ナノロッド ,  *電界放出 ,  電子親和力 ,  *ダイヤモンド型結晶 ,  *プラズマ曝露 ,  *プラズマ装置 ,  電子源 ,  共有結合 ,  焼なまし ,  透過型電子顕微鏡 ,  電流密度 ,  ロバスト性
準シソーラス用語： ターンオン電場 ,  *数層グラフェン

分類 (3件)： 原子・分子のクラスタ  (BH09030O) ,  熱電子放出,電界放出  (BM09020S) ,  プラズマ装置・核融合装置一般  (BJ02081R)

タイトルに関連する用語 (3件)： 数層グラフェン ,  プラズマ照射 ,  増強