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J-GLOBAL ID：201702213551977630   整理番号：17A0407809

マイクロ波空洞と分散アンテナアレイシステムにおけるナノ結晶ダイヤモンド膜の成長過程:比較研究【Powered by NICT】

Growth processes of nanocrystalline diamond films in microwave cavity and distributed antenna array systems: A comparative study

著者 (8件)： Baudrillart B. (LSPM-CNRS, UPR 3407, Universite Paris 13, Sorbonne Paris Cite, 99 Avenue J. B. Clement, 93430 Villetaneuse, France) ,  Nave A.S.C. (Leibniz Institute for Plasma Science and Technology (INP Greifswald), Felix-Hausdorff-Str. 2, 17489 Greifswald, Germany) ,  Hamann S. (Leibniz Institute for Plasma Science and Technology (INP Greifswald), Felix-Hausdorff-Str. 2, 17489 Greifswald, Germany) ,  Benedic F. (LSPM-CNRS, UPR 3407, Universite Paris 13, Sorbonne Paris Cite, 99 Avenue J. B. Clement, 93430 Villetaneuse, France) ,  Lombardi G. (LSPM-CNRS, UPR 3407, Universite Paris 13, Sorbonne Paris Cite, 99 Avenue J. B. Clement, 93430 Villetaneuse, France) ,  van Helden J.H. (Leibniz Institute for Plasma Science and Technology (INP Greifswald), Felix-Hausdorff-Str. 2, 17489 Greifswald, Germany) ,  Ropcke J. (Leibniz Institute for Plasma Science and Technology (INP Greifswald), Felix-Hausdorff-Str. 2, 17489 Greifswald, Germany) ,  Achard J. (LSPM-CNRS, UPR 3407, Universite Paris 13, Sorbonne Paris Cite, 99 Avenue J. B. Clement, 93430 Villetaneuse, France)
資料名： Diamond and Related Materials  (Diamond and Related Materials)
巻： 71  ページ： 53-62  発行年： 2017年 
JST資料番号： W0498A  ISSN： 0925-9635  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ結晶ダイヤモンド(NCD)膜の成長過程を二種類のマイクロ波プラズマ反応器の中で調べ,比較した。一つのプロセスはAr/H_2/ch_4ガス混合物で作動するベルジャー(BJ)マイクロ波共振器系における高い基板温度(1170K)と中程度の圧力(百hPa)で起こる。第二のプロセスは,供給ガスとしてH_2/CH_4/CO_2の混合物を用いた低圧(<100Pa)マイクロ波分散アンテナアレイ(DAA)反応器中で低い基板温度(670K以下)で発生した。両反応器で合成されたNCD膜は約20nmの粒径と強い<110>繊維軸を示したが,いくつかのわずかな相違は,膜形態,トポグラフィーおよび純度に関して観察された。しかし,成長速度はBJ反応器中で約30倍高かった。類似性と相違は,考察した基板温度のDAAとBJ反応器に対して,それぞれ,3.2及び9.0kcal/mol~ 1と推定可能な成長機構と活性化エネルギーを考慮して論じた。主要な鍵となる種密度ならびに基板近傍のガス温度を決定するためにマイクロ波放電はBJ反応器の場合のプラズマモデリングとDAA反応器の場合の中赤外スペクトル領域(MIR LAS)における可視スペクトル領域とレーザ吸収分光法における光学発光分光法(OES)により調べた。後者はDAA反応器(1000K以下)よりもBJ反応器(約2000K)でかなり高かった。プラズマ動力学は主にBJ反応器における熱化学によって駆動されるが,熱及び電子駆動プロセスの両方は,DAA反応器であり,基板表面に近い有意に異なるプラズマ組成をもたらすにおけるプラズマ化学を支配する。H,CおよびCO種,反応器タイプに依存して,CH_3ラジカルの同程度の量,およびNCD成長に及ぼす関連した影響の優位性は,結合したマイクロ波パワーに関して,両プロセスの分離効率と同様に,考察した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 粒径 ,  プラズマCVD ,  発光分光法 ,  低圧 ,  純度 ,  混合気体 ,  発光 ,  活性化エネルギー ,  成長速度 ,  モデリング ,  *マイクロ波 ,  反応器 ,  *ナノ結晶 ,  類似性 ,  基板温度

著者キーワード (6件)： ナノ結晶 ,  ダイヤモンド膜 ,  プラズマCVD ,  Microstructure ,  発光 ,  反応器モデル化

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (6件)： マイクロ波空洞 ,  分散アンテナ ,  アレイ ,  ナノ結晶ダイヤモンド膜 ,  成長過程 ,  研究