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J-GLOBAL ID：201702213837647768   整理番号：17A0968981

色素増感太陽電池への応用のための酸化すず系透明導電性薄膜の基板温度と特性の最適化【Powered by NICT】

Optimization of substrate temperature and characterization of tin oxide based transparent conducting thin films for application in dye-sensitized solar cells

著者 (9件)： P. Karthick (Multifunctional Materials & Devices Lab, Anusandhan Kendra - II, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India) ,  P. Karthick (School of Electrical and Electronics Engineering, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India) ,  Vijayanarayanan Divya (School of Electrical and Electronics Engineering, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India) ,  M. Sridharan (School of Electrical and Electronics Engineering, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India) ,  M. Sridharan (Functional Nanomaterials & Devices Lab, Centre for Nanotechnology and Advanced Biomaterials, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India) ,  R.T. Ananth Kumar (Department of Physics, UAE University, Al Ain, United Arab Emirates) ,  C. Sanjeeviraja (Department of Physics, Alagappa Chettiar College of Engineering and Technology, Karaikudi 630 004, India) ,  K. Jeyadheepan (Multifunctional Materials & Devices Lab, Anusandhan Kendra - II, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India) ,  K. Jeyadheepan (School of Electrical and Electronics Engineering, SASTRA University, Tirumalaisamudram, Thanjavur 613 401, India)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 631  ページ： 1-11  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化スズ(SnO_2)薄膜は,200°Cから500°Cまで変化する基板温度で予熱したガラス基板上にSnCl_2 2H_2O前駆体の噴霧スプレー熱分解(n SP)によって調製した。膜の構造,表面,光学的研究は色素増感太陽電池(DSSC)における透明導電性応用のための調製した膜の利用を支える電気的解析の結果を検証するために実施した。X線回折パターンは,膜は高い結晶品質である本質的に多結晶で,350°Cの低い基板温度で比較的ことを明らかにした。膜厚は約350nmであることが判明し,結晶子の大きさは,低格子歪と転位密度と50nmの範囲であった。表面形態解析は,均質,密に充填した結晶粒を有する均一な表面を示した。光学的研究は膜は非常に均一であり,350°Cで堆積した膜で560nmで観察された80%の透明度をもった良好な光学品質ことを示した。電気測定は,膜は7.83×10~ 2Ωcmの範囲の電気抵抗率を持つn型であることを明らかにした。,フッ素ドーピングは2.9×10~ 3Ωcmにさらに膜の抵抗率を減少させた。色素増感太陽電池デバイス構造(ガラス/FTO/TiO_2film/N 719色素/電解質/白金化FTO/ガラス,最適化されたフッ素ドープ酸化スズ薄膜を用いた開発した1cm~2)の表面積を,模擬太陽光のAM1.5照射下で4.02%の変換効率を発生させた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： フッ素 ,  *薄膜 ,  *色素 ,  膜厚 ,  *基板温度 ,  素子構造 ,  *最適化 ,  電気抵抗率 ,  *導電性 ,  ガラス ,  透明度 ,  多結晶
準シソーラス用語： スプレー熱分解 ,  ガラス基板 ,  *色素増感太陽電池 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： DSSC ,  酸化すず ,  薄膜 ,  ネブライザー噴霧熱分解 ,  GLAD ,  基板温度

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

タイトルに関連する用語 (6件)： 色素増感太陽電池 ,  応用 ,  酸化すず ,  透明導電性薄膜 ,  基板温度 ,  最適化