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J-GLOBAL ID:201702213846152758   整理番号:17A1460383

エピタキシャル成長させたトポロジカル結晶絶縁体SnTe(111)のARPES研究【Powered by NICT】

ARPES study of the epitaxially grown topological crystalline insulator SnTe(111)
著者 (22件):
資料名:
巻: 219  ページ: 35-40  発行年: 2017年 
JST資料番号: D0266C  ISSN: 0368-2048  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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SnTeは典型的なトポロジカル結晶絶縁体のギャップレス表面状態は結晶対称性によって保護されている。SnTeにおけるトポロジカル特性の特徴は,そのバルクBrillouin帯のL点近傍のバンド反転から生じる,鏡映対称性を有する表面に投影されたDiracコーン角度分解光電子放出により測定することができる。BaF_2(111)基板上に分子ビームエピタクシーによりSnTe薄膜の(111)表面を得た。,(111)表面に垂直な方向における多重Brillouin帯をカバーする,その場角度分解光電子放出の光子エネルギー依存性は,表面Brillouin帯のΓ とM 点で予測されたDiracコーンを実証した。添加では,バルクBrillouinゾーンのΓ点でのDirac円錐様バンド構造,DiracエネルギーはΓ とM 点での結果と概して違わを観測した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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電子分光スペクトル 
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