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J-GLOBAL ID：201702214015917066   整理番号：17A1708409

ZrN膜の反応性バイポーラパルス二重マグネトロンスパッタリング:デューティサイクルの影響【Powered by NICT】

Reactive bipolar pulsed dual magnetron sputtering of ZrN films: The effect of duty cycle

著者 (6件)： Rizzo A. (ENEA - Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Division Sustainable Materials, Laboratory Functional materials and technologies for sustainable applications - Brindisi Research Center, S.S. 7 Appia km. 706, 72100 Brindisi, Italy) ,  Valerini D. (ENEA - Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Division Sustainable Materials, Laboratory Functional materials and technologies for sustainable applications - Brindisi Research Center, S.S. 7 Appia km. 706, 72100 Brindisi, Italy) ,  Capodieci L. (ENEA - Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Division Sustainable Materials, Laboratory Functional materials and technologies for sustainable applications - Brindisi Research Center, S.S. 7 Appia km. 706, 72100 Brindisi, Italy) ,  Mirenghi L. (ENEA - Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Division Sustainable Materials, Laboratory Functional materials and technologies for sustainable applications - Brindisi Research Center, S.S. 7 Appia km. 706, 72100 Brindisi, Italy) ,  Di Benedetto F. (ENEA - Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Division Sustainable Materials, Laboratory Functional materials and technologies for sustainable applications - Brindisi Research Center, S.S. 7 Appia km. 706, 72100 Brindisi, Italy) ,  Protopapa M.L. (ENEA - Italian National Agency for New Technologies, Energy and Sustainable Economic Development, Division Sustainable Materials, Laboratory Functional materials and technologies for sustainable applications - Brindisi Research Center, S.S. 7 Appia km. 706, 72100 Brindisi, Italy)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 427  号： PA  ページ： 994-1002  発行年： 2018年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： それらの固有の高い硬度,耐摩耗性と耐食性,黄金色のために,窒化ジルコニウム(ZrN)被覆は広範囲の応用のための魅力的である,機械的,光学的,装飾および生物医学的デバイスである。中間周波数領域で動作する反応性双極パルス化二重マグネトロンスパッタリング(BPDMS)は高い蒸着速度で,形態学的欠陥のない,緻密な皮膜の堆積のための強力な技術である。事実,中間周波数電圧反転の使用は,アーク抑制を可能にし,結果として,反応性スパッタリングプロセスを安定化させる。二重バイポーラプロセスの成功にもかかわらず,まだ十分に理解されていないこの複雑な過程の多くの側面,ターゲット電圧波形の影響と膜成長に及ぼすプラズマパラメータなどである。知識の欠如を埋めるために,Zrターゲットへの異なる電圧波形を有するBPDMSにより堆積したZrN膜と膜の化学量論と同様にそれらの構造と機械的性質に及ぼすこれらの堆積パラメータの影響を本報で検討した。特に,33%以下のデューティサイクル値に対して,被覆の硬度は31GPaまで増加することが分かった。,XPSにより行い,化学組成の分析は,各膜の深さ方向に沿った化学量論のほぼ一定の値を検出し,デューティサイクルが減少するとN:Zr比は,1.06から1.20まで増加した。,N:Zr比が1.06の時,化学量論的ZrN化合物を得たが,N:Zr1.20に等しい,N原子に関してZr原子の欠如を得た。Raman分光法は,XPS分析の結果を確認し,それは最低デューティサイクルで成長した試料における構造不規則性に関係したいくつかの特徴を示した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *反応性 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  アーク放電 ,  薄膜成長 ,  X線光電子スペクトル ,  耐摩耗性 ,  被覆 ,  化学組成 ,  化学量論 ,  電圧 ,  *ジルコニウム ,  X線光電子分光法 ,  反応性スパッタリング ,  硬度
準シソーラス用語： 窒化ジルコニウム ,  *デューティサイクル , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 二重マグネトロンスパッタリング ,  XPS ,  Raman解析 ,  Hardness ,  GXRD

分類 (3件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C) ,  金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 反応性 ,  バイポーラ ,  パルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  デューティサイクル