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J-GLOBAL ID：201702214164577232   整理番号：17A0445145

CO_2とH_2Oの吸着のためのエッジ官能化とLiインターカレート555 777欠陥二層グラフェン【Powered by NICT】

Edge functionalised & Li-intercalated 555-777 defective bilayer graphene for the adsorption of CO₂ and H₂O

著者 (5件)： Lalitha Murugan (School of Chemical Engineering, The University of Queensland, Brisbane 4072, QLD, Australia) ,  Lalitha Murugan (Department of Physics, Bharathiar University, Coimbatore 641046, Tamil Nadu, India) ,  Lakshmipathi Senthilkumar (School of Chemical Engineering, The University of Queensland, Brisbane 4072, QLD, Australia) ,  Lakshmipathi Senthilkumar (Department of Physics, Bharathiar University, Coimbatore 641046, Tamil Nadu, India) ,  Bhatia Suresh K. (School of Chemical Engineering, The University of Queensland, Brisbane 4072, QLD, Australia)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 400  ページ： 375-390  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： divacanacy(DV)に及ぼすCO_2とH_2Oの吸着は,グラフェンクラスタを欠陥と,その二分子層は第一原理計算を用いて研究した。単一および二重層両DVグラフェンクラスタ,HおよびF原子で官能化した。これらのシートについてガス分子が物理吸着されると,二空格子点欠陥はCO_2の吸着を効果的に改善するが,フッ素化はグラフェンクラスタの疎水性を向上させた。DV欠陥によって誘起された凸面と凹面曲率領域の中で,凹面メニスカス上の気体分子の吸着がより有利であった。フッ素終端はH_2OのHenry則定数の73%減少を誘導したが,CO_2分子では8%であり,これはDV欠陥シートはSTW欠陥シートと比較してCO_2捕捉のための良好な候補であることを示す増加した。に加えて,AAとAB二空位欠陥二層薄板の両方が等しく安定,AA積層はシート間の空洞をもたらし,AB積層では,層は,片方がもう片方をスライドした。それにもかかわらず,これらの両二分子層シートは単分子層よりも比較的安定であった。しかし,リチウムのインターカレーションは層間隔,特にAA積層,CO_2吸着を増強することを減少させるが,Bernal積層で疎水性増強する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： フッ素化 ,  曲率 ,  疎水性 ,  二分子層 ,  インターカレーション ,  物理吸着 ,  層間隔 ,  フッ素 ,  点欠陥 ,  *官能化 ,  単分子層 ,  凹面 ,  *吸着
準シソーラス用語： *二層 ,  第一原理計算 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 複空格子点 ,  555 777欠陥 ,  二層グラフェン ,  フッ素終端 ,  リチウムインターカレーション

分類 (3件)： 金属の格子欠陥  (BK12030F) ,  金属薄膜  (BK14030T) ,  吸着の電子論  (CB12042Y)

タイトルに関連する用語 (6件)： 吸着 ,  エッジ ,  官能化 ,  Li ,  欠陥 ,  二層グラフェン