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J-GLOBAL ID：201702214365839542   整理番号：17A0447242

タイトセラミックナノろ過膜のための大気圧原子層堆積:合成と応用水質浄化【Powered by NICT】

Atmospheric pressure atomic layer deposition for tight ceramic nanofiltration membranes: Synthesis and application in water purification

著者 (8件)： Shang Ran (Department of Sanitary Engineering, Faculty of Civil Engineering and Geosciences, Delft University of Technology, P.O. Box 5048, 2600 GA Delft, The Netherlands) ,  Shang Ran (School of Environmental Science and Engineering, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Goulas Aristeidis (Delft IMP B.V., 2629 JD Delft, The Netherlands) ,  Tang Chuyang Y. (Department of Civil Engineering, The University of Hong Kong, Pokfulam HW619B, Hong Kong) ,  de Frias Serra Xavier (Department of Sanitary Engineering, Faculty of Civil Engineering and Geosciences, Delft University of Technology, P.O. Box 5048, 2600 GA Delft, The Netherlands) ,  de Frias Serra Xavier (IQS School of Engineering, Universitat Ramon Llull, Via Augusta 390, 08017 Barcelona, Spain) ,  Rietveld Luuk C. (Department of Sanitary Engineering, Faculty of Civil Engineering and Geosciences, Delft University of Technology, P.O. Box 5048, 2600 GA Delft, The Netherlands) ,  Heijman Sebastiaan G.J. (Department of Sanitary Engineering, Faculty of Civil Engineering and Geosciences, Delft University of Technology, P.O. Box 5048, 2600 GA Delft, The Netherlands)
資料名： Journal of Membrane Science  (Journal of Membrane Science)
巻： 528  ページ： 163-170  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0669A  ISSN： 0376-7388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： タイトセラミックナノろ過(NF)膜は,有機物質の効率的な分離と高度浄水処理のためのイオンを可能にした。これらの膜はゾル-ゲル法によって作製した。最近,自己制限気相コーティング法,原子層堆積(A LD)を,膜の作製と改質のために調べた。本研究では,緻密セラミックNF膜の合成は大気圧A LD(APALD)を用いて実証したが,これは一般的に報告された真空ベースA LD法に比べて真空生成システムを伴わずに操作した。二酸化チタンはAPALDの単に1~三サイクルを用いたナノ多孔性膜基板上に被覆した。活性細孔の平均サイズは0.2nm狭く,0.7から0.5nmにした。さらに,活性細孔のサイズ分布はAPALD改質後より均一になった。作製した緻密セラミックNF膜は,260から380Daの分子量カットオフ(MWCO)を有していたXI16Lm~ 2時間~( 1)棒~ 1,市販タイト高分子NFとゾル-ゲル法で緻密セラミックNF膜よりも著しく高い高い水透過性を維持した。共形TiO_2薄膜は,1サイクル当たり0.39nmの成長速度でAPALD下での平面表面上に堆積されることが観察されたが,膜細孔中の蒸着は,低速度,サイクル当たり0.05nmと推定した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *浄水 ,  成長速度 ,  細孔 ,  *セラミック ,  *ナノ濾過 ,  低速度 ,  ゾル-ゲル法 ,  透水性 ,  分子量 ,  気相
準シソーラス用語： カットオフ ,  サイズ分布 ,  ナノ多孔性膜 ,  二酸化チタン ,  *ナノ濾過膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： セラミック膜ろ過 ,  ナノろ過 ,  大気圧原子層堆積 ,  水処理

分類 (2件)： 膜分離  (XD02120Z) ,  セラミック・陶磁器一般  (YC03010K)

タイトルに関連する用語 (5件)： ろ過膜 ,  大気圧 ,  原子層堆積 ,  応用 ,  水質浄化