Hyland A.M. について
The MacDiarmid Institute for Advanced Materials and Nanotechnology, University of Canterbury, Christchurch 8043, New Zealand について
Reeves R.J. について
The MacDiarmid Institute for Advanced Materials and Nanotechnology, University of Canterbury, Christchurch 8043, New Zealand について
Makin R.A. について
Department of Electrical and Computer Engineering, Western Michigan University, Kalamazoo, MI 49008-5329, USA について
Durbin S.M. について
Department of Electrical and Computer Engineering, Western Michigan University, Kalamazoo, MI 49008-5329, USA について
Allen M.W. について
The MacDiarmid Institute for Advanced Materials and Nanotechnology, University of Canterbury, Christchurch 8043, New Zealand について
Materials Science in Semiconductor Processing について
酸化パラジウム について
反応性 について
電流 について
酸化イリジウム について
酸化亜鉛 について
スパッタリング について
熱安定性 について
バイアス について
単結晶 について
酸化 について
パルスレーザ蒸着 について
整流 について
理想因子 について
障壁高さ について
Schottky接触 について
ZnO について
Schottky接触 について
Richardson定数 について
高温度 について
パラジウム について
イリジウム について
固体デバイス材料 について
半導体の結晶成長 について
ZnO について
酸化 について
貴金属 について
Schottky接触 について
熱安定性 について