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J-GLOBAL ID：201702214731798296   整理番号：17A0748189

水溶液からのCe(III)-含浸橋かけキトサン複合体によるりん酸塩の除去【Powered by NICT】

Phosphate removal by Ce(III)-impregnated crosslinked chitosan complex from aqueous solutions

著者 (4件)： Hu Pan (College of Science, Northwest a&F University, Yangling, Shaanxi, 712100, China) ,  Liu Qian (College of Science, Northwest a&F University, Yangling, Shaanxi, 712100, China) ,  Wang Jing (College of Science, Northwest a&F University, Yangling, Shaanxi, 712100, China) ,  Huang Ruihua (College of Science, Northwest a&F University, Yangling, Shaanxi, 712100, China)
資料名： Polymer Engineering & Science  (Polymer Engineering & Science)
巻： 57  号： 1  ページ： 44-51  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0640A  ISSN： 0032-3888  CODEN： PYESA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 新しい吸着剤,Ce(III)-含浸架橋キトサン複合体(Ce CCS)を,水溶液からのリン酸塩の除去のための膜形成と架橋法により調製した。Ce CCSはEDAX技術と組み合わせたFTIR,X線回折,および走査電子顕微鏡で特性化した。Ce CCSへのリン酸塩の吸着は,初期りん酸塩濃度,pH,接触時間,および共アニオンの関数としてバッチシステムで測定した。最大吸着はpHが3程度で起こった。共アニオンの存在はCe CCSへのリン酸塩の吸着を減少させた。Ce CCSはCe(III)の導入による架橋キトサン(CCS)よりも高い吸着容量を示した。Ce CCSによる平衡データはFreundlich等温線モデルに良く適合した。速度データは擬2次モデルに従った。りん酸塩吸着は主にCe CCSとリン酸塩との間の表面錯体生成と静電引力を含んでいた。に加えて,Ce CCSは0.1mol/LのHCl溶液で再生し易い傾向があった。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  吸着 ,  *リン酸塩 ,  等温線 ,  *水溶液 ,  吸着剤 ,  接触時間 ,  *含浸 ,  塩酸 ,  アニオン ,  *複合体 ,  X線回折 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： 表面錯体生成 ,  吸着容量 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 水溶液 ,  Ce ,  含浸 ,  橋かけ ,  キトサン ,  複合体 ,  りん酸塩