文献

J-GLOBAL ID：201702214737426640   整理番号：17A1235562

o-ニトロベンズアルデヒドの光転位におけるトンネル生成物の生成【Powered by NICT】

Formation of a Tunneling Product in the Photorearrangement of o-Nitrobenzaldehyde

著者 (2件)： Gerbig Dennis (Institute of Organic Chemistry, Justus-Liebig University, Heinrich-Buff-Ring 17, 35392, Giessen, Germany) ,  Schreiner Peter R. (Institute of Organic Chemistry, Justus-Liebig University, Heinrich-Buff-Ring 17, 35392, Giessen, Germany)
資料名： Angewandte Chemie  (Angewandte Chemie)
巻： 129  号： 32  ページ： 9573-9576  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0396A  ISSN： 0044-8249  CODEN： ANCEAD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最初1901年に報告された,o-ニトロソ安息香酸へのo-ニトロベンズアルデヒドの光化学的転位は明確なケテン中間体を経由して進行することが示されている。3Kのような低温で種々のホスト材料中のマトリックス分離実験の過程で,ケテンはその電子及び振動基底状態における再検討した。はこれまで報告されていないH-トンネル化はその反応性を支配し,半減期数分であることを示した。意外なことに,トンネル生成物である光過程で形成されたo-ニトロソ安息香酸から異なっており,照射により調製した,ケテンはH-トンネル化により開始された興味深い機構を介してイソオキサゾロンに転位した。CCSD(T)/cc-pVTZ計算はこのイソオキサゾロンは実験条件下で熱力学的にも速度論的にも,このユニークなトンネル生成物の形成はトンネル制御の注目すべきと新しい例を構成していることを明らかにした。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 熱力学 ,  中間体 ,  基底状態 ,  *光転位 ,  速度論 ,  低温 ,  反応性 ,  半減期 ,  ケテン ,  マトリックス分離

著者キーワード (5件)： Matrixisolation ,  Nitrobenzaldehyd ,  Photochemie ,  スラリーorganische化学 ,  Tunneln

分類 (2件)： 光化学反応  (CB08020F) ,  芳香族単環アルデヒド  (CF05160X)

物質索引 (1件)： o-ニトロソ安息香酸

タイトルに関連する用語 (4件)： o-ニトロベンズアルデヒド ,  光転位 ,  トンネル ,  生成物