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J-GLOBAL ID：201702215156627424   整理番号：17A0994253

Ti/Si-3N_4フォトニック構造を備えた太陽熱吸収体膜の増強されたスペクトル選択性【Powered by NICT】

Enhanced spectra selectivity of solar absorber film with Ti/Si₃N₄ photonic structures

著者 (6件)： Li Bowen (School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Qi Dong (School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Wang Xian (School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Wang Fang (School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Nie Yan (School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China) ,  Gong Rongzhou (School of Optical and Electronic Information, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, China)
資料名： Materials Letters  (Materials Letters)
巻： 201  ページ： 5-8  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0935A  ISSN： 0167-577X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スペクトル選択太陽吸収体では,2は二周期Ti/Si_3N_4フォトニック構造に関係するが,Al/Si_3N_4/(Ti/Si_3N_4)~2の複合膜を理論的および実験的に提案した。亜層Al,Si_3N_4とTiの実験的厚さは約80.9nm,26.8nmおよび67.4nmであった。膜は太陽エネルギー,すなわち,可視と近赤外領域で高い吸収率の割合に応じて増強されたスペクトル選択性を示したが,中遠赤外領域における高い反射率。実験はそれらのそれぞれの領域における平均吸収率と反射率を同時に約90%に達することができることを示した。本研究では,スペクトル選択吸収膜のための1dpc応用に重要な経路を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 遠赤外線 ,  *スペクトル ,  太陽エネルギー ,  反射率 ,  *太陽 ,  *吸収体 ,  選択吸収膜 ,  複合膜 ,  吸収係数 ,  選択吸収 ,  *チタン
準シソーラス用語： 近赤外領域 ,  *太陽熱 ,  *フォトニック構造 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 太陽選択吸収体 ,  フォトニックバンドギャップ ,  スペクトル選択性 ,  Al/Siは_3N_4/(Ti/Si-3N_4)~2 ,  反射率

分類 (5件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  半導体結晶の電気伝導  (BM03043X) ,  非金属材料へのセラミック被覆  (YC02040K) ,  誘電体一般  (BM05010F) ,  錯体の可視・紫外スペクトル  (BM08086X)

タイトルに関連する用語 (8件)： Ti ,  Si ,  フォトニック構造 ,  太陽熱 ,  吸収体 ,  増強 ,  スペクトル ,  選択性