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J-GLOBAL ID：201702215560502552   整理番号：17A0547349

反応性スパッタリングによるZEOCOAT層上へのイットリア安定化ジルコニアの蒸着

Deposition of Yttria Stabilized Zirconia (YSZ) Film on ZEOCOAT Layer by Reactive Sputtering

著者 (2件)： MASRURA Haque Mayeesha (Japan Adv. Inst. Sci. & Tech. (JAIST)) ,  HORITA Susumu (Japan Adv. Inst. Sci. & Tech. (JAIST))
資料名： 応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Spring Meeting (CD-ROM))
巻： 64th  ページ： ROMBUNNO.14a-213-3  発行年： 2017年03月01日
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *反応性スパッタリング ,  *シクロアルケン ,  *セラミック ,  *酸化イットリウム ,  *酸化ジルコニウム ,  *スパッタ蒸着 ,  *基板 ,  X線回折 ,  結晶度 ,  層 ,  金属薄膜 ,  依存性
準シソーラス用語： XRD ,  *イットリア安定化ジルコニア ,  *シクロオレフィン ,  結晶性 ,  中間層 ,  膜厚依存性 ,  *有機基板

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y)

タイトルに関連する用語 (3件)： 反応性スパッタリング ,  イットリア安定化ジルコニア ,  蒸着