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J-GLOBAL ID：201702215730375163   整理番号：17A0756752

はんだ付けのためのぎ酸による金属酸化物の還元の観測と解析【Powered by NICT】

Observation and analysis of metal oxide reduction by formic acid for soldering

著者 (4件)： Ozawa Naoto (R&D Headquarters, Origin Electric Co., Ltd., 3-3-27, Sakawa, Sakura-ku, Saitama-shi, Saitama 338-0823, Japan) ,  Okubo Tatsuo (R&D Headquarters, Origin Electric Co., Ltd., 3-3-27, Sakawa, Sakura-ku, Saitama-shi, Saitama 338-0823, Japan) ,  Matsuda Jun (R&D Headquarters, Origin Electric Co., Ltd., 3-3-27, Sakawa, Sakura-ku, Saitama-shi, Saitama 338-0823, Japan) ,  Sakai Tatsuo (R&D Headquarters, Origin Electric Co., Ltd., 3-3-27, Sakawa, Sakura-ku, Saitama-shi, Saitama 338-0823, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2016  号： IMPACT  ページ： 148-151  発行年： 2016年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リアルタイムでエリプソメータとはんだ濡れ性および残存酸化物層厚との関係と酸化物層状態を観測する方法を本論文で報告した。スペクトルエリプソメータとギ酸によりリアルタイムに銅酸化物層の還元プロセスを観察するためにギ酸ガスを導入するためのポートを持つ真空チャンバを用いた実験系を構築した。酸化物層の厚さは,このシステムを用いて監視し,はんだ濡れ性は同じ銅基板上にはんだを配置することにより評価した。実験の結果から,完全な酸化物除去を達成するプロセスである良好なはんだ濡れ性を得るために必要であることが明らかになった。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： ポート ,  層厚 ,  *はんだ付 ,  真空容器 ,  エリプソメータ ,  *はんだ ,  濡れ ,  酸化銅 ,  *金属酸化物 ,  *酸化物 ,  脂肪族カルボン酸
準シソーラス用語： 銅基板 ,  酸化物層 ,  実時間 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： ろう付  (WC07050C) ,  接続部品  (NA05050Z) ,  プリント回路  (NA05040O)

物質索引 (1件)： ギ酸

タイトルに関連する用語 (6件)： はんだ付け ,  ぎ酸 ,  金属酸化物 ,  還元 ,  観測 ,  解析