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J-GLOBAL ID：201702216047675408   整理番号：17A1007033

プラズマ重合SiO:CH粒子の析出に及ぼす基質材料の影響

Influence of Substrate Materials on Deposition of Plasma-polymerized SiO:CH Particles

著者 (4件)： Inoue Yasushi (Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology) ,  Koike Haruka (Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology) ,  Aihara Takumi (Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology) ,  Takai Osamu (Materials and Surface Engineering Research Institute, Kanto Gakuin University)
資料名： Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 30  号： 3  ページ： 337-340(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 有機官能基(SiO:CH)を有するシリカ粒子を,トリメチルメトキシシラン反応体を用いるプラズマ強化化学蒸着によって合成し,そして粒子の析出挙動に及ぼす基質材料の影響を検討した。蒸着フィルムは,基質上に堆積した均一なSiO:CH層およびSiO:CH粒子または層表面上のそれらの凝集体の両方から成る。粒子の球体形状は,それらが気相中での均一な核形成プロセスによって重合することを示す。平均粒子径は,どんなタイプの基質材料上でもほとんど同じである。他方,金コートガラスまたはシリコン基板上の粒子の表面密度は,ガラス板上のそれより非常に高い。凝集体の平均粒子数は,金コート基板上でまた,より高い。SiO:CH粒子のこれらの挙動は,基質材料の電気的性質によって説明することができる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 粒子 ,  官能化 ,  *プラズマ重合 ,  析出 ,  基質 ,  評価 ,  *プラズマCVD ,  核形成 ,  粒径 ,  *シリカ粒子 ,  平均粒子径
準シソーラス用語： 影響評価 ,  官能基化 ,  *プラズマ化学蒸着

著者キーワード (3件)： Chemical vapor deposition ,  SiO:CH particle ,  Self-organized structure

分類 (3件)： 放射線重合  (CG04060K) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  気相めっき  (WC08022K)

物質索引 (1件)： トリメチルメトキシシラン

引用文献 (10件)：

• 1. O. Takai, A. Hozumi, and N. Sugimoto, J. Non- Crystal. Solids, 218 (1997) 280.
• 2. N. E. Blanchard, B. Hanselmann, J. Drosten, M. Heuberger, and D. Hegemann, Plasma Proc. Polym., 12 (2015) 32.
• 3. K. Teshima, H. Sugimura, Y. Inoue, and O. Takai, Langmuir, 19 (2003) 8331.
• 4. R. Charifou, E. Espuche, F. Gouanve, L. Dubost, and B. Monaco, J. Membrane Sci., 500 (2016) 245.
• 5. A. Grill and V. Oatel, Appl. Phys. Lett., 79 (2001) 803.

タイトルに関連する用語 (5件)： プラズマ重合 ,  SiO ,  CH ,  析出 ,  基質