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J-GLOBAL ID:201702216113472144   整理番号:17A1557087

直接接触膜蒸留による脱塩のためのTiO_2~-FTCS修飾超疎水性PVDF電界紡糸ナノファイバー膜【Powered by NICT】

TiO2-FTCS modified superhydrophobic PVDF electrospun nanofibrous membrane for desalination by direct contact membrane distillation
著者 (6件):
資料名:
巻: 423  ページ: 1-11  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0934A  ISSN: 0011-9164  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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直接接触膜蒸留(DCMD)プロセスで使用する電気紡糸膜のための主要な課題は,膜表面の疎水性と細孔構造に関連した不十分な細孔濡れ抵抗である。低温水熱プロセスによって膜表面に関する最初の被覆TiO_2ナノ粒子と,1h,1h,2h,2hペルフルオロドデシルトリクロロシラン(FTCS)の低表面エネルギー材料とfluorosilanizedされTiO_2被覆膜を含む新規超疎水化法はバージンポリふっ化ビニリデン電気紡糸ナノ繊維膜(PVDF ENM)を修飾するために用いた。結果は,このTiO_2~-FTCS改質膜は高い疎水性(157.1°),高平均粗さ(4.63μm),かなりの濡れ抵抗(158kPa),適切に分布した細孔径(0.81μm),合理的な表面多孔性(57%)と適度な膜厚(55μm)を持つことを示した。これらの組合せ特性を改質PVDF ENMを行ったDCMDのための魅力的な候補である。高フラックスと安定した脱塩性能は,3.5wt%NaCl溶液を用いて短期DCMDプロセス(73.4LMH透過流束,99.99%塩排除率)で達成した。供給溶液として実際の逆浸透ブラインによる長期DCMDプロセスは高い性能を示した(40.5LMH, 99.98%)。これらの結果は,市販のPVDF膜と非修飾PVDF ENMを遙かに超え,DCMD用途におけるPVDFのENMの可能性を示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
膜分離  ,  蒸留,蒸発 

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