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J-GLOBAL ID:201702216123999889   整理番号:17A1399161

イオンビーム作製集積光学素子の最近の進歩【Powered by NICT】

Recent progress in ion beam fabrication of integrated optical elements
著者 (8件):
資料名:
巻: 2017  号: ICTON  ページ: 1-4  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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中間エネルギーイオン注入による種々の光学結晶で設計し,記述した平面光導波路とBragg格子。作製した集積光学素子のいくつかの例を本論文で提示した800keV~ 3.5MeVエネルギー範囲でN~+イオンをシリコン基板に5MeV N~3+イオン照射,および多重エネルギー注入によって作製したBragg格子によるEr:LiNbO_3結晶で製作した平面光導波路。SRIMコードは光学素子を計画するために使用した。イオン注入した光学素子を分光偏光解析法と可視と赤外反射率測定により試験した。結果は,提案した製作法は,適切なパラメータの集積光学素子を作ることができることを示した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
分類
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
タイトルに関連する用語 (3件):
タイトルに関連する用語
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