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J-GLOBAL ID：201702216368009780   整理番号：17A0434116

シリカ系膜による高分子基板の被覆のためのヘキサメチルジシロキサンと酸素とアンモニアのプラズマ分解

Plasma decomposition of hexamethyldisiloxane, oxygen, and ammonia for coating a polymer substrate with silica-based film

著者 (1件)： KAWASE Motoaki (Kyoto U.)
資料名： 化学工学会年会研究発表講演要旨集(CD-ROM)  (化学工学会年会(CD-ROM))
巻： 82nd  ページ： ROMBUNNO.E206  発行年： 2017年03月06日 
JST資料番号： X0547B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ポリエチレンナフタレート ,  セラミック被覆 ,  表面処理 ,  *二酸化ケイ素 ,  プラズマCVD ,  ガスバリヤ性

分類 (1件)： 表面処理  (YH04112X)

物質索引 (1件)： ヘキサメチルジシロキサン

タイトルに関連する用語 (6件)： シリカ ,  高分子基板 ,  ヘキサメチルジシロキサン ,  酸素 ,  アンモニア ,  プラズマ分解