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J-GLOBAL ID:201702216609119776   整理番号:17A1432884

応力の非存在下でのシリカガラス中の水の拡散【Powered by NICT】

Diffusion of water in silica glass in the absence of stresses
著者 (5件):
資料名:
巻: 100  号:ページ: 3895-3902  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0253A  ISSN: 0002-7820  CODEN: JACTAW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,比較的低い温度範囲が25~°C,≒500°Cにおけるシリカガラスへの水蒸気の拡散について考察した。他のそのような拡散での詳細な研究から,不活性ガスからの水の拡散は液体の水の拡散とは異なって挙動することを示した。液体水中では,表面での水の濃度は急速に飽和値を達成した。ガスでは,表面での水の濃度は一定値を達成しないが,定常状態値に到達し最終的には時間とともに蓄積した。ここでは,公表されたデータは,シリカガラスへの水の拡散への表面障壁の存在を仮定することにより説明できることを示した。障壁を通る拡散速度を定量化する方程式を開発した。拡散結果を公表されているデータと一致した。障壁形成は自由表面でのシリカガラスの構造と水はバルクガラスにおける反応方法とは対照的に,表面で反応する方法の結果であることを示唆した。この記述は拡散障壁の発達の定量的説明を与え,液体水と水蒸気は自由表面における方法間のコントラストを提供する。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (1件):
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ガラスの性質・分析・試験 
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