抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
以前の研究において,脱気1MHClO
4中のFe表面における種々の陰イオンと有機陽イオンインヒビター,テトラブチルアンモニウムイオン(C
4H
9)
4N
+(TBA
+)の吸着と腐食抑制について硬いおよび軟らかい酸塩基の法則に基づいて考察した。本研究では,1MHClO
4中のFe表面における吸着性陰イオンCl
-,I
-およびSH
-とさらにこれらの陰イオンとTBA
+の吸着挙動を検討する。陰イオンおよびTBA
+の表面被覆率θをインピーダンス測定で求めた電気二重層容量から得た。非共有電子対がないTBA
+は表面に静電気相互作用によって吸着した。非共有電子対を持つ陰イオンは静電吸着よりもむしろ安定な軟らかい酸塩基の作用によって化学吸着した。軟らかい塩基であるI
-およびSH
-のθはゼロ電荷電位E
pzcに近い電位でθが最大値となった。これはE
pzcにおける表面が最も軟らかい酸として作用するためである。TBA
+は陰イオンが化学吸着したFe表面に静電気作用によって吸着し,高いθとなった。(著者抄録)