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J-GLOBAL ID：201702216886380380   整理番号：17A1715701

Al-Cu合金におけるAl/θ′-Al_2Cu界面での溶質偏析【Powered by NICT】

Solute segregation at the Al/θ′-Al₂Cu interface in Al-Cu alloys

著者 (5件)： Shin Dongwon (Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, USA) ,  Shyam Amit (Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, USA) ,  Lee Sangkeun (Computational Science and Mathematics Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, USA) ,  Yamamoto Yukinori (Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, USA) ,  Haynes J. Allen (Materials Science and Technology Division, Oak Ridge National Laboratory, Oak Ridge, TN 37831, USA)
資料名： Acta Materialia  (Acta Materialia)
巻： 141  ページ： 327-340  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0316A  ISSN： 1359-6454  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： アルミニウムとθ′Al_2Cu間の界面に偏析した溶質原子は準安定θ′の安定性を高温にできることが確認された最近の研究。Al/θ′界面への34元素の偏析エネルギーの大規模な第一原理データベースを提示し,高温Al-Cu合金の設計を導くことができる重要な記述子を同定した。偏析エネルギーはθ′内の溶質原子とそれらの溶解度の大きさと体積と強く相関していることを見出した。Al/θ′界面を安定化させるために個々の要素の能力の観点から実験的に観察された元素階層への物理的/化学的基礎を提供した。最後に,Al-Cu合金の臨界温度限界をさらに増加させる機会を提供する新しいマイクロアロイング戦略を示唆した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *合金 ,  *界面 ,  *溶質 ,  臨界温度 ,  *アルミニウム ,  高温 ,  溶解度 ,  データベース ,  第一原理 ,  *偏析
準シソーラス用語： マイクロアロイング ,  溶質原子 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (7件)： Al-Cu合金 ,  θ′-Al_2Cu ,  溶質偏析 ,  インタフェイス ,  第一原理計算 ,  密度汎関数理論 ,  相関解析

分類 (1件)： 組織的硬化現象  (WB01020C)

タイトルに関連する用語 (5件)： Al ,  Cu合金 ,  界面 ,  溶質 ,  偏析