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J-GLOBAL ID：201702217077607031   整理番号：17A0164313

NC-GE/SIN_X多層膜材料は,非線形光学特性を制御することができる。【JST・京大機械翻訳】

Tunable Nonlinear Optical Properties of nc-Ge/SiN_x Multilayers

著者 (6件)： Li Cong (East China Research Institute of Electronic Engineering, National Laboratory of Solid State Microstructures) ,  Zhang Pei (National Laboratory of Solid State Microstructures, College of Electrical and Information Engineering,Zhengzhou University of Light Industry) ,  Jiang Liying (College of Electrical and Information Engineering,Zhengzhou University of Light Industry) ,  Chen Qinghua (College of Electrical and Information Engineering,Zhengzhou University of Light Industry) ,  Yan Yanxia (College of Electrical and Information Engineering,Zhengzhou University of Light Industry) ,  Jiang Suxia (College of Electrical and Information Engineering,Zhengzhou University of Light Industry)
資料名： Faguang Xuebao  (Faguang Xuebao)
巻： 37  号： 10  ページ： 1217-1222  発行年： 2016年 
JST資料番号： W1380A  ISSN： 1000-7032  CODEN： FAXUEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： ナノ/窒化ケイ素(NC-GE/SIN_X)多層薄膜を,プラズマ強化化学蒸着とポストアニーリングによって調製した。RAMANスペクトルにより,微細構造を特性化し,そして,サンプルの結晶度は,46%以上であった。試料の光吸収スペクトルから,NC-GEのサイズが小さいほど,その光学バンドギャップが大きいことがわかった。試料の非線形光学特性をZ走査技術を用いて研究し,波長が1064NM,パルス幅が25PSのとき,非線形屈折率は10(-10)CM2/Wであった。実験結果により,NC-GEのサイズを変えることにより,非線形光学屈折率は自己集束から自己集束特性に変化し,負の非線形屈折率係数は二段階吸収による自由キャリア散乱効果に起因することを示した。励起光強度が増加すると,六方晶の厚さが6NMの多層膜には二段階吸収過程と飽和吸収過程が同時に存在する。二つの非線形光学吸収過程間の競争はサンプルが異なる非線形光学特性を呈する主な原因である。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 波長 ,  屈折率 ,  窒化ケイ素 ,  パルス幅 ,  自己集束 ,  光学ギャップ ,  プラズマCVD ,  六方晶系 ,  キャラクタリゼーション ,  *多層膜 ,  *非線形光学 ,  結晶度
準シソーラス用語： 自由キャリア ,  非線形屈折率 ,  *非線形光学特性 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： nc-Ge/SiN_x multilayers ,  saturable absorption ,  two-step absorption process ,  free carries dispersion

分類 (1件)： 非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (2件)： 多層膜 ,  非線形光学特性