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J-GLOBAL ID：201702217479716546   整理番号：17A0360262

ポリスルホンブラシによる還元グラフェンオキシドの官能化は抗菌性を増強し,ヒト細胞毒性を減少させる【Powered by NICT】

Functionalization of reduced graphene oxide with polysulfone brushes enhance antibacterial properties and reduce human cytotoxicity

著者 (6件)： Pena-Bahamonde Janire (Department of Materials Science and Engineering and Chemical Engineering, University Carlos III of Madrid, (IAAB), 28911 Leganes, Madrid, Spain) ,  San Miguel Veronica (Department of Materials Science and Engineering and Chemical Engineering, University Carlos III of Madrid, (IAAB), 28911 Leganes, Madrid, Spain) ,  Nguyen Hang N. (Department of Civil and Environmental Engineering, University of Houston, 77204-4003 Houston, TX, USA) ,  Ozisik Rahmi (Department of Material Science and Engineering Rensselaer Polytechnic Institute, 12180 Troy, NY, USA) ,  Rodrigues Debora F. (Department of Civil and Environmental Engineering, University of Houston, 77204-4003 Houston, TX, USA) ,  Cabanelas Juan Carlos (Department of Materials Science and Engineering and Chemical Engineering, University Carlos III of Madrid, (IAAB), 28911 Leganes, Madrid, Spain)
資料名： Carbon  (Carbon)
巻： 111  ページ： 258-268  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0270B  ISSN： 0008-6223  CODEN： CRBNA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニトレン化学によるポリスルホン(PSU)ブラシを有する還元グラフェン酸化物(rGO)ナノシートを修飾への二つのルートを報告した。PSU高分子は四肢(rGO PSU末端)とPSU鎖(rGO PSU中)の中間でrGOに結合している。得られたrGO PSU合成生成物を注意深くRaman及びFTIR分光法,XPS,TEM,および熱重量分析によって特性化し,rGO表面上にPSUの成功裏のグラフト化を明らかにした。これらナノシートの長期安定性も一般的溶媒中で決定した。浮遊性枯草菌と大腸菌に対する高分子官能化rGOの抗菌特性も調べた。は,これらのナノ複合材料の抗微生物特性は反応性酸素種の生成に起因することを確立した。結果はまた,rGO PSU中は,より短い高分子鎖,グラフェン表面と微生物の接触を改善するためにより優れた抗菌特性を示すことを実証した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 熱重量分析 ,  *ブラシ ,  ナノシート ,  微生物 ,  大腸菌 ,  FTIR分光法 ,  *官能化 ,  *ポリスルホン ,  高分子 ,  *細胞毒性 ,  枯草菌 ,  高分子鎖 ,  *ヒト ,  ニトレン ,  *グラフェン

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (7件)： 還元 ,  グラフェンオキシド ,  官能化 ,  抗菌性 ,  増強 ,  ヒト ,  細胞毒性