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J-GLOBAL ID：201702217531124442   整理番号：17A0626218

ゾルゲル処理およびSoxhlet抽出による低コスト水ガラスからの高純度シリカの合成

Synthesis of high purity silica from low cost water glass via sol-gel process and soxhlet extraction

著者 (6件)： GU Bongjun (Kumoh National Inst. of Technol., Gyeongbuk, KOR) ,  KO Dongwook (Kumoh National Inst. of Technol., Gyeongbuk, KOR) ,  AHN Seokhoon (Korea Inst. of Sci. and Technol., Jeonbuk, KOR) ,  HYUN Dong Choon (Kyungpook National Univ., Daegu, KOR) ,  LEE Hyun-Kwuon (Kumoh National Inst. of Technol., Gyeongbuk, KOR) ,  KIM Jongbok (Kumoh National Inst. of Technol., Gyeongbuk, KOR)
資料名： Journal of Sol-Gel Science and Technology  (Journal of Sol-Gel Science and Technology)
巻： 82  号： 3  ページ： 675-681  発行年： 2017年06月 
JST資料番号： W0812A  ISSN： 0928-0707  CODEN： JSGTEC  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ゾルゲル処理と水ガラスにより低コストのシリカ粉末を合成した。この場合,pH条件を変えると,粒径が制御できる。高いpHでは凝集速度が大きく球状の凝集物が得られ,低いpHでは球状ではない非常に大きなシリカが生成する。小さなサイズの凝集体では,不純物が凝集体の間にトラップされ,大きなサイズの凝集体では不純物はその表面に来る。走査電子顕微鏡とエネルギー分散X線光電子分光分析により,シリカ凝集体とのサイズと不純物の分布を明らかにした。本研究では,pH条件を制御して大きなサイズのシリカを生成し,Soxlet抽出によって不純物を取り除いた。

シソーラス用語： *ゾル-ゲル法 ,  *溶媒抽出 ,  *水ガラス ,  *高純度物質 ,  *二酸化ケイ素 ,  粒径 ,  pH依存性 ,  凝集体 ,  走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析
準シソーラス用語： *ゾル-ゲル処理 ,  *Soxhlet抽出 ,  *シリカ

分類 (1件)： コロイド化学一般  (CB11010C)

タイトルに関連する用語 (5件)： ゾルゲル処理 ,  Soxhlet抽出 ,  水ガラス ,  高純度 ,  シリカ