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J-GLOBAL ID:201702217636753136   整理番号:17A1835735

3次元フォトニック素子と回路のための多層シリコン集積フォトニックプラットフォーム【Powered by NICT】

Multilayer silicon integrated photonic platforms for 3D photonic devices and circuits
著者 (1件):
資料名:
巻: 2017  号: IPC  ページ: 181  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本講演では鋳造適合多層ケイ素ニトリド-on-ケイ素集積フォトニックプラットフォームを用いた著者のグループの進歩を提示した。窒化ケイ素は,シリコン層中の活性成分と統合することができる改善された受動フォトニック成分,高効率変調器,高速光検出器,そして潜在的にハイブリッドレーザを可能にする。多層プラットフォームも導波路レベル間の強い光結合を利用する回折格子結合器と偏光回転子スプリッタのための新しいデバイス構造を可能にした。さらに,多層プラットフォームは非常に低損失over/underパス型の交差を可能にする。総合すれば,これらの能力は非常に大規模な三次元シリコンフォトニック回路の実現,光スイッチングとフェイズドアレイのような応用に必要なのための理想的な多層ケイ素ニトリド-on-ケイ素フォトニックプラットフォームにする。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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光導波路,光ファイバ,繊維光学 
タイトルに関連する用語 (5件):
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