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J-GLOBAL ID：201702218328331736   整理番号：17A0697525

水酸化第二鉄の理解ニトリロトリス(メチレンホスホン酸)反応【Powered by NICT】

Understanding Nitrilotris(methylenephosphonic acid) reactions with ferric hydroxide

著者 (2件)： Martinez Rodrigo Javier (Department of Chemical and Environmental Engineering, University of Arizona, Tucson, AZ, 85721, USA) ,  Farrell James (Department of Chemical and Environmental Engineering, University of Arizona, Tucson, AZ, 85721, USA)
資料名： Chemosphere  (Chemosphere)
巻： 175  ページ： 490-496  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0843A  ISSN： 0045-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ホスホン酸化合物は多種多様な工業と農業応用で使用されると,表面水と地下水に一般的に見られる。水酸化第二鉄への吸着は環境におけるホスホン酸化合物の輸送と運命に大きな影響を及ぼす。本研究では,水酸化第二鉄に及ぼすニトリロトリス(メチレンホスホン酸)(NTMP)の吸着機構を調べるために,密度汎関数理論モデリングを使用した。反応(Δ G r o)と反応の活性化障壁(E_a)の標準Gibbs自由エネルギーを種々の可能な吸着機構を計算した。水酸化第二鉄にNTMPの物理吸着は,負電荷支援水素結合により促進された, 2.7から 7.4kcal/molの範囲のΔGr Oを有していた。NTMPは三種類の内圏錯体を形成することを見出し,単座,二座単核および二座配位二核であった。単座配位錯体では,ΔGr Oは 8.0~ 13.7kcal/molの範囲であり,二座配位錯体ΔGr O 15.3から 28.9kcal/molの範囲であった。Ca~2+との錯体生成は,物理吸着のエネルギーを低下させたが,モノ-および二座配位錯体の結合エネルギーを増加させた。Ca~2+との錯体生成は,三座三元表面錯体の形成を可能にした,Ca~2+イオンは三FeO~および三PO~ 基間の架橋を形成した。物理吸着はE_a=0を持っていたが,モノ-およびニ座配位錯体形成は36~53kcal/molに及ぶE_a値を有していた。Ca~2+を含む三座三元表面錯体の生成は8及び10kcal/molの最低活性化障壁を有していた。吸着の異なるモードに対して異なる活性化障壁はNTMPの吸着と脱着の異常な速度論的挙動の以前の実験的観察を説明するかもしれない。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： Gibbs自由エネルギー ,  錯体 ,  密度汎関数法 ,  脱着 ,  物理吸着 ,  錯体生成 ,  モデリング ,  *メチレン基 ,  速度論 ,  結合エネルギー ,  *ホスホン酸 ,  吸着
準シソーラス用語： 活性化障壁 ,  吸着機構 ,  *水酸化鉄(III) , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： ニトリロトリス(メチレンホスホン酸)(NTMP) ,  ホスホン酸 ,  第二鉄水酸化物から成る吸着剤 ,  DFT

分類 (2件)： 重金属とその化合物一般  (SB05021R) ,  物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 水酸化第二鉄 ,  理解 ,  メチレン ,  ホスホン酸