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J-GLOBAL ID:201702218401633664   整理番号:17A1963718

反応性マグネトロンスパッタリングにより作製したスカンジウム酸化物膜の化学量論と性質の間の相関【Powered by NICT】

Correlation between stoichiometry and properties of scandium oxide films prepared by reactive magnetron sputtering
著者 (8件):
資料名:
巻: 427  号: PB  ページ: 312-318  発行年: 2018年 
JST資料番号: B0707B  ISSN: 0169-4332  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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スカンジウム酸化物膜を,反応性パルスDCマグネトロンスパッタリングにより溶融シリカ基板上に堆積した。フィードバック発光モニタリングの使用は,調整可能な化学量論と特性を持つ膜の高速反応性堆積を可能にした。化学量論,化学量論的および過化学量論酸化スカンジウム膜を調製した。膜中の圧縮応力は235と530MPaの間であった。スカンジウム酸化物の相構造,密度,表面粗さと光学的性質を膜の化学量論と堆積条件に影響されることを示した。透明酸化スカンジウム膜は僅かに疎水性(94±3°),均一結晶サイズが20±5nmであった。最低吸光係数0.7×10~ 3,最高屈折率2.08(355nmの波長で両方の量)と最高密度4.1±0.1g cm~ 3は化学量論組成で作製した膜を示した。化学量論スカンジウム酸化物は高い屈折率と広いバンドギャップ材料として種々の光学用途に使用することができる。または過化学量論組成への遷移は,膜密度,屈折率と消衰係数の増加を減少させた。Copyright 2018 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (2件):
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酸化物薄膜  ,  光物性一般 

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