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J-GLOBAL ID：201702218403194733   整理番号：17A1135359

低配位Er(III)錯体の磁気緩和における高次対称性と静電配位子場設計の重要な役割【Powered by NICT】

Key role of higher order symmetry and electrostatic ligand field design in the magnetic relaxation of low-coordinate Er(iii) complexes

著者 (4件)： Singh Saurabh Kumar (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology Bombay, Powai, Mumbai-400076, India. [e-mail]) ,  Pandey Bhawana ,  Velmurugan Gunasekaran ,  Rajaraman Gopalan
資料名： Dalton Transactions  (Dalton Transactions)
巻： 46  号： 35  ページ： 11913-11924  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0270A  ISSN： 1477-9226  CODEN： DTARAF  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ランタニドイオンの扁平/偏長型電子密度に基づく静電配位子場変調の概念フレームワークは,ランタニド単一イオン磁石における障壁高さを強化するための最も成功したアプローチの一つである。最近,好ましくない配位子場をもつ四配位[Er{N(SiMe_3)2}s_3Cl]・2THF(1)錯体は零磁場中の磁化の遅い緩和を示し,静電配位子場変調の概念に挑戦する。この錯体の磁気緩和を明らかにするために,単一イオン磁石の同じファミリーに属する三Er(III)錯体に関する詳細な理論的研究を行った。CASSCF/PT2+RASSI SO法は扁平/偏長型に基づく静電配位子場変調の概念は,これらの錯体で有効であり,観察された緩和動力学は,Er(iii)イオン周辺の対称性と幾何学的歪の両方を考慮して合理的に説明できることを明らかにした。ab initio計算遮断障壁と結晶場解析を用いて,磁気緩和の重要な成分を分析した。著者らの研究は,これらの構造では,Er(III)イオンは三個の窒素ドナー原子により形成される三角形平面のシフトし,この面外シフト(τ)は磁化の遅い緩和に顕著に影響することを示唆した。金属-配位子結合の性質へのより深い洞察を得るために,axialおよびequatorial配位子場の強さを定量的に予測するために,ELF,QTAIMおよびEDA分析はこれらの錯体で行った。著者らの知見は,磁気緩和のための大きな障壁高さを有する分子が適切な配位子場の複合効果とEr(iii)イオン周辺の対称性に起因することを明らかにした。両方の効果の複雑な役割を理解するために,いくつかのロバストな磁気-構造相関を開発した。に加えて,ランタニドハロゲン共有結合性も磁気異方性,磁気緩和を制御することにおいて重要な役割を果たすことが分かった。-Fからへ移行すると共にほぼ直線的傾向は,計算した障壁高さとEr X共有原子価の増加の間で観察された。は単核ランタニド系錯体における障壁高さを増加させるための新規アプローチを提供する。Copyright 2018 Royal Society of Chemistry All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： *エルビウム錯体 ,  *配位子場 ,  *磁気緩和 ,  *対称性 ,  電子密度 ,  磁石 ,  CASSCF法 ,  動力学 ,  ab initio法 ,  磁化 ,  量子論 ,  磁気異方性 ,  解析 ,  高さ ,  クロロ錯体 ,  リチウム錯体 ,  環状エーテル
準シソーラス用語： 単分子磁石 ,  緩和動力学 ,  QTAIM ,  構造性質相関 ,  障壁高さ

分類 (2件)： 第3族元素の錯体  (CE01060J) ,  有機化合物の磁性  (BM06070A)

物質索引 (2件)： ビス(トリメチルシリル)アミン ,  THF

タイトルに関連する用語 (7件)： Er ,  錯体 ,  磁気緩和 ,  対称性 ,  配位子場 ,  設計 ,  役割