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J-GLOBAL ID：201702218579413012   整理番号：17A1233143

ニオブをドープした{100}集合組織化したジルコニウム酸チタン酸鉛膜の性能に及ぼす鉛含有量の影響【Powered by NICT】

Effect of lead content on the performance of niobium-doped {100} textured lead zirconate titanate films

著者 (6件)： Borman Trent M. (Department of Materials Science and Engineering and Materials Research Institute, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania) ,  Zhu Wanlin (Department of Materials Science and Engineering and Materials Research Institute, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania) ,  Wang Ke (Department of Materials Science and Engineering and Materials Research Institute, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania) ,  Ko Song Won (XAAR plc, Cambridge, UK) ,  Mardilovich Peter (XAAR plc, Cambridge, UK) ,  Trolier-McKinstry Susan E. (Department of Materials Science and Engineering and Materials Research Institute, The Pennsylvania State University, University Park, Pennsylvania)
資料名： Journal of the American Ceramic Society  (Journal of the American Ceramic Society)
巻： 100  号： 8  ページ： 3558-3567  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0253A  ISSN： 0002-7820  CODEN： JACTAW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニオブをドープした,{100}集合組織,勾配,ジルコニウム酸チタン酸鉛(PZT)膜を,種々の鉛含有量の溶液から作製した。膜鉛含有量が14.7%から17at.%まで平均溶液鉛過剰の変化によって制御した。低電場誘電応答だけでなく,分極-電場ヒステリシスループは,鉛含有量の強い関数ではなかった。しかし,前駆体中の低鉛含有量の膜はより鉛前駆体から調製した膜よりも高い分極電場に耐える傾向があった。残留PbOは結晶粒界では観察されなかったが,より多くの鉛溶液から調製した膜は,亀裂が観察された粒界空隙率,低い絶縁破壊強度およびより低いしきい値電場のより高いレベルを有していた。Copyright 2017 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 結晶粒界 ,  *ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  分極 ,  *ニオブ ,  亀裂 ,  *鉛 ,  *ドーピング ,  空隙率 ,  電場 ,  薄膜 ,  前駆体 ,  *集合組織 ,  絶縁耐力
準シソーラス用語： ヒステリシスループ ,  誘電応答 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： チタン酸ジルコニウム酸鉛 ,  圧電材料/特性 ,  ゾル-ゲル ,  texture ,  薄膜

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： ニオブ ,  ドープ ,  集合組織 ,  ジルコニウム酸チタン酸鉛 ,  鉛 ,  含有量