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J-GLOBAL ID：201702218624553301   整理番号：17A1627510

成長させたままとフラッシュランプアニールしたスパッタ蒸着した酸化チタン膜中のクロム組込みの構造的影響【Powered by NICT】

Structural impact of chromium incorporation in as-grown and flash-lamp-annealed sputter deposited titanium oxide films

著者 (7件)： Gago R. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, E-28049 Madrid, Spain) ,  Prucnal S. (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, D-01328 Dresden, Germany) ,  Perez-Casero R. (Departamento de Fisica Aplicada and Centro de Microanalisis de Materiales, Universidad Autonoma de Madrid, E-28049 Madrid, Spain) ,  Caretti I. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, E-28049 Madrid, Spain) ,  Jimenez I. (Instituto de Ciencia de Materiales de Madrid, Consejo Superior de Investigaciones Cientificas, E-28049 Madrid, Spain) ,  Lungwitz F. (Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Institute of Ion Beam Physics and Materials Research, D-01328 Dresden, Germany) ,  Cornelius S. (Materials for Energy Conversion and Storage, Department of Chemical Engineering, Faculty of Applied Sciences, Delft University of Technology, Van der Maasweg 9, NL-2629-HZ Delft, The Netherlands)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 729  ページ： 438-445  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 成長させたままと後のフラッシュランプアニーリング(FLA)状態に対する二酸化チタン(TiO_2:Cr)膜の構造中のクロム(Cr)の取り込み(<15at.%)の影響を検討した。サンプルは非加熱または加熱(400 °C)基板上にDCマグネトロンスパッタリングにより作製した。相補中および局所的秩序情報をX線回折と近吸収端構造によってそれぞれ抽出した。非加熱基板上に成長させたTiO_2:CrはCrとCr~3+と進行性形成Cr~6+からの主要な寄与と非晶質であった。加熱された基板上では,アナターゼ相は低いCr濃度(≦7at.%)で支配的であり,構造はCrを含むルチル構造を持つ無秩序混合酸化物に向けて。FLAエネルギー密度を調整することにより,カスタマイズされた(単一または混合)相形成は,(初めは非晶質)CrフリーTiO_2から達成される。低Cr(≦7at.%)の非晶質TiO_2:Crでは,FLAは短距離ルチル構造を誘導するが構造秩序化はより高いCrレベルで観察されなかった。それにもかかわらず,FLAはCr~6+部位を消滅とCr~4+,これは混合酸化物ルチルに関連することを促進した。FLAは加熱基板上に成長させたアナターゼTiO_2:Crの元の構造を改善した。これらの結果は,混合酸化物の原子構造とバンドギャップ工学TiO_2~ベース材料の合成のためのFLAの使用に関する適切な情報を提供する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 非晶質 ,  X線回折 ,  バンドギャップ ,  エネルギー密度 ,  *クロム ,  酸化物 ,  アナターゼ ,  ルチル ,  吸収端 ,  *スパッタ蒸着 ,  原子構造
準シソーラス用語： 混合酸化物 ,  ルチル型構造 ,  DCマグネトロンスパッタリング ,  二酸化チタン , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 酸化物材料 ,  蒸着 ,  原子スケール構造 ,  XANES

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (6件)： 成長 ,  フラッシュランプアニール ,  スパッタ蒸着 ,  酸化チタン膜 ,  クロム ,  組込み