抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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根は地下器官であり,正常では下方成長に重力ベクトルに従った。しかし,本質的に,根は根光回避(KutscheraとBriggs,2012)と呼ばれる負の屈光性応答における日光に曝される可能性がある。このような屈性応答は根の異なる側面の間の非対称成長による臓器曲率,一般的に植物ホルモンオーキシン(Wangら,2015)の非対称分布と相関するによって特性化した。光もポリフェノール化合物の生産,フラボノール,各種UV-B保護,オーキシン輸送の阻害,およびRS捕捉(TaylorとGrotewold,2005)での役割が浮上したを含むを誘導する。最近の研究で,Silva Navasら(2016)は,オーキシン,サイトカイニン,およびRS(図1)と連動する動作する機構を介して根光回避と根の成長を調節する代謝産物としてフラボノールを同定した。そうすることで,それらは光屈性と成長を決定するために多重入力の基本的な収束を示した。もほぼ間違いなく二次として以前に報告した化合物はそれから実際に離れているそれらは根の成長のための特注設計された成長装置中で成長する植物によって前述の機構的洞察を提供し,特異的な適応成長中の特定のモーメントでボックスの片側だけを明らかに可能にする!他の実証(他D’AuriaとGershenzon,2005参照)におけるこの過程におけるフラボノールの役割に関する初めての機構的説明を提供した。細胞分裂よりもむしろ細胞伸長により促進されることを照明を側面に応答した根の曲率を促進する上で最も重要であることが初期の研究は,青色光を示唆し,PHOT受容体。,長期光曝露は根分裂組織のサイズを減少させることを示した。転写産物プロファイリングはUV,光合成および光応答関連遺伝子における大きな変化とフラボノイド生合成経路の転写物のアップレギュレーションを示したが,メタボロミクス分析はフラバノールケルセチンおよびケンペロールの濃度は光曝露後に変化したことを確認した。さらに,顕微鏡分析を組合わせた蛍光色素ジフェニルほう酸-2-アミノエチルエステル(DPBA)を用いたフラボノール豊度の空間的な分析は,フラボノール蓄積は光曝露された根の成長と一致したことを明らかにした。さらに,ケルセチン処理した暗所で生育した根の根長は光曝露根と類似していた。興味深いことに,TRANSPARENT TESTA4(TT4)変異体,カルコンシンターゼ,クエルセチンおよびケンペロールナリンゲニンカルコンの産生を触媒する欠損は,野生型(Lewisら2011,2011)よりも長い根を示した。Silva Navasら(2016)の論文における実験は,この効果はケルセチンの外因性供給による表現型模写,根滲出液におけるそれらの重要性に依存しない方法での根の生長を仲介するフラボノールの重要性を強調できることを明らかにした。フラボノールは成長に及ぼす仲介効果に加えて,光回避反応における役割をDPBA染色とTT4GUSマーカー系,非対称照射根の照射側で,それぞれ,カルコンイソメラーゼの高発現とフラボノールの蓄積を明らかにした後に観察することができた。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST【Powered by NICT】
