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J-GLOBAL ID：201702219012818923   整理番号：17A1374528

コロイダルセリア砥粒の凝集状態に着目した石英ガラス基板研磨

著者 (5件)： 黒河周平 (九大) ,  外山貴彬 (九大) ,  林照剛 (九大) ,  須田栄作 (ソルベイ・スペシャルケム・ジャパン) ,  徳田潤 (ソルベイ・スペシャルケム・ジャパン)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 秋季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.A06  発行年： 2017年09月05日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ガラス基板や酸化膜のCMPには,セリア砥粒が一般的に用いられている。通常スラリーには焼成セリア砥粒が用いられるが,スクラッチを生じさせることが問題として挙げられている。本研究では,焼成セリア砥粒より粒径が小さいコロイダルセリア砥粒を用いて,基板表面品質のさらなる向上と研磨レートの向上の両立を目指している。本稿では,焼成セリア砥粒比べて粒径が小さいコロイダルセリア砥粒において,砥粒凝集状態に着目した研磨レート上昇の効果について調査したので報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： 石英ガラス ,  基板 ,  *化学機械研磨 ,  凝集 ,  砥粒 ,  酸化セリウム

分類 (1件)： その他の表面処理  (WC08070F)

引用文献 (1件)：

• 外山貴彬ほか,日本機械学会 九州学生会 第46回卒業研究発表講演会 (No.158-2 論文集 2015.3.3).

タイトルに関連する用語 (6件)： 砥粒 ,  凝集 ,  着目 ,  石英 ,  ガラス基板 ,  研磨