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J-GLOBAL ID：201702219863447287   整理番号：17A1090479

散乱計測に基づく光学的測定の高度な応用

Advanced applications of scatterometry based optical metrology

著者 (9件)： DIXIT Dhairya (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA) ,  KELLER Nick (Nanometrics, CA) ,  KAGALWALA Taher (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA) ,  RECCHIA Fiona (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA) ,  LIFSHITZ Yevgeny (Nanometrics, CA) ,  ELIA Alexander (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA) ,  TODI Vinit (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA) ,  FRONHEISER Jody (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA) ,  VAID Alok (GLOBALFOUNDRIES Technology Dev., New York, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 10145  号： Pt.2  ページ： 101451H.1-101451H.10  発行年： 2017年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 7nm以細の先進技術ノードのピッチウォーキング,オーバレイ,フィン湾曲などの欠陥を特性化するための光散乱測定法の応用とその利点を概説した。現在,光散乱測定法は,従来の分光偏光解析法及び分光反射率測定に基づくが,一般的偏光解析法やMueller行列分光偏光解析法のデータは異方性および脱分極効果を示す複雑な構造に関する重要な追加情報を提供する。また,Mueller行列要素に関連する対称-反対称性は構造中に存在する非対称性を測定する優れた手段である。ここでは,MM素子の有用な追加情報ならびに対称性-反対称性特性を用いて,OCDのピッチウォーキングに対する感度を高めた。

シソーラス用語： *光学的測定 ,  回路パターン形成 ,  半導体プロセス ,  光散乱 ,  偏光解析法 ,  反射率 ,  Mueller行列 ,  *長さ ,  *リソグラフィー
準シソーラス用語： *クリティカルディメンジョン ,  限界寸法 ,  光CD ,  *散乱測定 ,  分光反射率 ,  分光偏光解析法

分類 (1件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G)

タイトルに関連する用語 (3件)： 散乱計測 ,  光学的測定 ,  応用