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J-GLOBAL ID：201702220218337524   整理番号：17A0924661

BiB₂O^-およびBi₂B^-におけるビスマス-ホウ素多重結合【Powered by NICT】

Bismuth-Boron Multiple Bonding in BiB₂O^- and Bi₂B^-

著者 (4件)： Jian Tian (Department of Chemistry, Brown University, Providence, RI, 02912, USA) ,  Cheung Ling Fung (Department of Chemistry, Brown University, Providence, RI, 02912, USA) ,  Chen Teng-Teng (Department of Chemistry, Brown University, Providence, RI, 02912, USA) ,  Wang Lai-Sheng (Department of Chemistry, Brown University, Providence, RI, 02912, USA)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 56  号： 32  ページ： 9551-9555  発行年： 2017年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子欠損にもかかわらず,ホウ素は多重結合を形成する融通性があった。遷移金属ほう素二重結合は知られているが,ほう素-金属三重結合は明らかになっていない。三重及び二重B-Bi結合を含む二ビスマスホウ素クラスタアニオン,BiB_2O およびBi_2B -を提示した。BiB_2O およびBi_2B クラスタは混合B/Biターゲットのレーザ蒸発により生成し,光電子分光法とab initio計算によって特性化した。良く分解された光電子スペクトルを得て,解釈ab initio計算の助け,両種は線形であることを示すした。化学結合分析は,BiがBiB_2O -([Bi≡B B≡O] )とBi_2B -([Bi=B=Bi] )中のほう素と三重及び二重結合を形成する,ことを明らかにした。BiB二重および三重結合強度は3.21と4.70eVであると計算した。BiB二重および三重結合の最初の実験的観察である,多重結合を有する設計主族金属-ほう素錯体への扉を開いた。Copyright 2018 Wiley Publishing Japan K.K. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *化学結合 ,  三重結合 ,  二重結合 ,  化学合成 ,  光電子分光法 ,  ab initio法 ,  *結合エネルギー ,  *アニオン ,  *ビスマス化合物 ,  分子構造 ,  クラスタ ,  *ホウ化物
準シソーラス用語： *多重結合

著者キーワード (5件)： ab initio計算 ,  ビスマス ,  ほう素 ,  多重結合 ,  光電子分光法

分類 (2件)： 分子の電子構造  (BH05010Q) ,  塩  (CD01050V)

タイトルに関連する用語 (3件)： ビスマス ,  ホウ素 ,  多重結合