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J-GLOBAL ID:201702220293643918   整理番号:17A1033115

高安定性黒りんFETの酸化物トラップの正確なマッピング【Powered by NICT】

Accurate mapping of oxide traps in highly-stable black phosphorus FETs
著者 (7件):
資料名:
巻: 2017  号: EDTM  ページ: 114-115  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高安定性黒リン電界効果トランジスタを吟味し,それが十か月以上のための再現性のある特性を示すことができることを示した。それにもかかわらず,これらの素子の性能は,酸化物トラップの熱活性化電荷捕獲に影響されることを示した。これらの重要なトラップを特性化するために,著者らは異なる時定数をもつ欠陥の正確なマッピングを可能にする普遍的な実験技術を導入した。室温で抽出した酸化物トラップ密度はより成熟したSi/SiO_2素子について報告されたものに近かった。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (1件):
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トランジスタ 

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