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J-GLOBAL ID：201702220306781798   整理番号：17A1046890

相転移メモリ適用のためのアンチモン化チタン薄膜の物理的性質と構造の研究

Study on the physical properties and structure of titanium antimony thin films for phase change memory application

著者 (4件)： WU Weihua (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  WU Weihua (Jiangsu Univ. Technol., Changzhou, CHN) ,  CHEN Shiyu (Tongji Univ., Shanghai, CHN) ,  ZHAI Jiwei (Tongji Univ., Shanghai, CHN)
資料名： Journal of Materials Science  (Journal of Materials Science)
巻： 52  号： 19  ページ： 11598-11607  発行年： 2017年10月 
JST資料番号： B0722A  ISSN： 0022-2461  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiとSbの共スパッタ蒸着によりTi_xSb_100-x(x=8,27,49)の薄膜を調製し,その相転移挙動をin situ電気測定により調べた。その結果,Ti含有量の増加と共に結晶化温度が増加し,電気伝導率は減少した。制限視野電子回折により非晶質と多結晶の両方が確認された。x=27の材料は,良好な熱安定性,低融点,低表面粗度,小体積収縮,高接着強度という優れた特性を示した。結晶化の動力学をArrheniusプロットとJohnson-Mehl-Avramiモデルに基づいて解析し考察した。得られたAvarami指数の値から結晶化は1次元成長が支配的であることが推定された。

シソーラス用語： スパッタ蒸着 ,  *不揮発性メモリ ,  *相転移 ,  *アンチモン化物 ,  チタン化合物 ,  電気測定 ,  依存性 ,  含有量 ,  晶出温度 ,  結晶化 ,  電気伝導率 ,  非晶質 ,  多結晶 ,  熱安定性 ,  融点 ,  表面性状 ,  収縮 ,  体積 ,  接着強さ ,  図化 ,  Arrheniusの式 ,  指数 ,  結晶成長 ,  *蒸着膜
準シソーラス用語： Arrheniusプロット ,  Avrami指数 ,  含有量依存性 ,  相転移メモリ ,  体積収縮

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (5件)： 相転移メモリ ,  アンチモン ,  チタン薄膜 ,  物理的性質 ,  研究