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J-GLOBAL ID:201702220558922454   整理番号:17A1725019

中赤外プラズモニクスのための金の代替としての 3~10~20cmを超える活性化ドーピングによるシリコン上の高濃度ドープゲルマニウム【Powered by NICT】

Heavily-doped germanium on silicon with activated doping exceeding 1020 cm-3 as an alternative to gold for mid-infrared plasmonics
著者 (14件):
資料名:
巻: 2017  号: GFP  ページ: 9-10  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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Ge-オン-Siは,Siファウンドリ互換プラズモニクスのためのプラットフォームであることを示した。レーザ熱アニーリングを用いて3~20μmの中赤外センシング窓の大部分を可能にする金プラズモニクスに匹敵する増強で覆われたとする活性ドーピングレベル10~20cm~ 3>を実証した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】
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分類 (2件):
分類
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固体プラズマ  ,  無機化合物一般及び元素 

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