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J-GLOBAL ID：201702220573465125   整理番号：17A1629437

組織培養細胞分布に及ぼす過渡的熱伝達の影響【Powered by NICT】

The impact of transient heat transfer on tissue culture cell distribution

著者 (4件)： Brown Jeffrey D. (Department of Biology, University of Portland, 5000 N Willamette Blvd, Portland 97203, OR, USA) ,  Dillon Heather E. (Shiley School of Engineering, University of Portland, 5000 N Willamette Blvd, Portland 97203, OR, USA) ,  Kaweesa Dorcas V. (Shiley School of Engineering, University of Portland, 5000 N Willamette Blvd, Portland 97203, OR, USA) ,  Harada Arden M. (Department of Biology, University of Portland, 5000 N Willamette Blvd, Portland 97203, OR, USA)
資料名： Biosystems Engineering  (Biosystems Engineering)
巻： 163  ページ： 28-36  発行年： 2017年 
JST資料番号： E0030A  ISSN： 1537-5110  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 成長のための37°C培養前に室温でマルチウェルプレートにおける付着真核細胞をsubcultureに一般的な方法である。これらの条件下で,細胞分布は井戸の端部近くの細胞のより高い密度を有する不均一。無傷細胞における自動プレートリーダーを用いた場合の不均一細胞密度は多くの生物学的アッセイにおける細胞挙動を変えることができ,変動をもたらす可能性がある。本研究は,不均一細胞分布は増殖培地と井戸壁における温度勾配によって引き起こされたことを可能性を調べた。細胞密度解析は,壁近傍の有意に高い細胞密度を明らかにした。温度分布を赤外線イメージングと温度感受性液晶膜を用いて記録した,過渡的熱伝達数学モデルは,システムを特性化するために開発し,細胞密度の結果と比較した。モデルは37°C培養を開始,インキュベーションの最初の~30分で井戸の暖かい端への選択的細胞接着をもたらす直後の井戸における初期でよりも1°C温度勾配ことを予測した。不均一細胞分布を修復するための技術を評価し,簡単な方法を24穴プレートの井戸を横切る均一な細胞密度を促進するために有効であった。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： バイオアッセイ ,  細胞接着 ,  *熱伝達 ,  *組織培養 ,  真核細胞 ,  細胞密度 ,  温度感受性 ,  温度勾配 ,  キャラクタリゼーション ,  温度分布 ,  付着 ,  数学モデル ,  液晶
準シソーラス用語： 細胞挙動 ,  *細胞分布 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 細胞分布 ,  マルチウエルプレート ,  熱伝達 ,  組織培養

分類 (2件)： 収穫・調製用機械  (FB03030K) ,  農業機械・施設一般  (FB03010O)

タイトルに関連する用語 (3件)： 組織培養 ,  細胞分布 ,  熱伝達