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J-GLOBAL ID：201702220583367017   整理番号：17A0977641

プラズマ蒸着SiO_x膜の核形成に及ぼす有機表面化学の影響

Influence of organic surface chemistry on the nucleation of plasma deposited SiO_x films

著者 (6件)： HOPPE C (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU) ,  MITSCHKER F (Ruhr-Univ. Bochum, Bochum, DEU) ,  GINER I (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU) ,  ARCOS T de los (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU) ,  AWAKOWICZ P (Ruhr-Univ. Bochum, Bochum, DEU) ,  GRUNDMEIER G (Univ. Paderborn, Paderborn, DEU)
資料名： Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻： 50  号： 20  ページ： 204002,1-9  発行年： 2017年05月24日 
JST資料番号： B0092B  ISSN： 0022-3727  CODEN： JPAPBE  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 長さが同じで末端基(-CH₃,-COOH,Si-(OCH₃))の異なる自己組織化単分子膜(SAM)により形成した基板上のプラズマ重合SiO_xの初期成長段階(厚み<2nm)を調べた。目標は他のプラズマ堆積パラメータを一定に保って,核形成と成長過程における分子表面化学の役割を決定することにあった。偏光変調FTIR反射吸収分光法,サイクリックボルタンメトリー,AFMを用いて,SiO_xプラズマ膜を特性化した。-CH₃,-COOHに基づく超薄膜は高い欠陥密度を示し,これはSiO_xネットワーク中の酸化脂肪性断片の取込及び/又は吸着HMDSO断片のプラズマ誘起架橋の劣化に起因した。

シソーラス用語： プラズマCVD ,  *酸化ケイ素 ,  *薄膜成長 ,  *核形成 ,  界面化学 ,  単分子層 ,  プラズマ重合 ,  FTIR分光法 ,  赤外反射吸収分光法 ,  光変調 ,  末端基 ,  効果 ,  層
準シソーラス用語： バリア層 ,  プラズマ蒸着 ,  自己組織化単分子膜 ,  表面化学 ,  偏光変調 ,  末端基効果

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： プラズマ蒸着 ,  核形成 ,  表面化学