文献

J-GLOBAL ID：201702220835488579   整理番号：17A1494887

ポリスルホン限外ろ過膜における分子インプリントTiO_2ナノ粒子による染料の選択的除去【Powered by NICT】

Selective removal of dyes by molecular imprinted TiO₂ nanoparticles in polysulfone ultrafiltration membrane

著者 (3件)： Melvin Ng H.K. (School of Chemical Engineering, Engineering Campus, Universiti Sains Malaysia, 14300 Nibong Tebal, Pulau Pinang, Malaysia) ,  Leo C.P. (School of Chemical Engineering, Engineering Campus, Universiti Sains Malaysia, 14300 Nibong Tebal, Pulau Pinang, Malaysia) ,  Abdullah A.Z. (School of Chemical Engineering, Engineering Campus, Universiti Sains Malaysia, 14300 Nibong Tebal, Pulau Pinang, Malaysia)
資料名： Journal of Environmental Chemical Engineering  (Journal of Environmental Chemical Engineering)
巻： 5  号： 4  ページ： 3991-3998  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2960A  ISSN： 2213-3437  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 標的染料の選択的除去および染料混合物中の他の染料の再利用は,分子刷込高分子(MIP TiO_2)TiO_2を修正することにより達成された。MIP TiO_2は,ポリスルホン(PSf)限外ろ過膜に固定化した粒子の回収を排除した。MIP TiO_2,PSf膜の分離能力を強化し,PSf膜上に選択的に光触媒特性を生成した。MIP TiO_2はUV照射下で5サイクル以内に2.00までメチレンブルー/メチレンオレンジの理想的な選択性を達成した。選択的MIP TiO_2は相反転前PSf膜にブレンドした。染料除去の選択性はさらに統合光分解限外ろ過プロセスにおけるMIP TiO_2ナノ粒子とブレンドしたPSf膜を用いた2.83に増加した。改善は,PSf膜の表面電荷に起因した。一方,PSf膜の透過性はMIP TiO_2を組み込んだ後に増強された。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *ナノ粒子 ,  *限外濾過 ,  表面電荷 ,  *ポリスルホン ,  *染料 ,  光分解 ,  再利用 ,  紫外線照射
準シソーラス用語： 透過性 ,  転相 ,  固定化 ,  分子刷込高分子 ,  *分子インプリント法 ,  *限外濾過膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (6件)： 分子インプリント ,  TO_2ナノ粒子 ,  限外ろ過 ,  展望 ,  染料 ,  吸着

分類 (1件)： 膜分離  (XD02120Z)

タイトルに関連する用語 (5件)： ポリスルホン ,  限外ろ過膜 ,  分子インプリント ,  ナノ粒子 ,  染料