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J-GLOBAL ID：201702221415919316   整理番号：17A1501713

遠心分離機を用いた溶媒蒸発法による剥離C_3N_4ナノフレークの集合様薄膜の形成【Powered by NICT】

Formation of thin film like assembly of exfoliated C₃N₄ nanoflakes by solvent non-evaporative method using centrifuge

著者 (2件)： Tejasvi Ravi (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India) ,  Basu Suddhasatwa (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi 110016, India)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 424  号： P1  ページ： 9-14  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 遠心分離法を用いて基板上にナノ材料の薄膜を析出させるための簡単な方法を開発した,溶媒蒸発を阻止し,溶媒再利用が可能である。堆積の遠心載荷法は基板表面テクスチャに関係なく均一で滑らかな薄膜が得られた。研究した蒸着したTiO_2/eC_3N_4膜,電界放出走査電子顕微鏡,原子間力顕微鏡,および光学式表面粗さ計を通して,遠心分離速度に基づいて表面粗さの変化を示した。膜被覆率は改善し,表面粗さは遠心分離の回転数の増加とともに減少し,表面粗さはrpmがさらに増加するとわずかに増加した。TiO_2/eC_3N_4膜の光電気化学的研究は,遠心分離法は,強化された光電気化学的水分解に導くスピンコーティング法によるものと比較して良好なヘテロ接合を形成することを示唆する。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： 回転数 ,  スピンコーティング ,  原子間力顕微鏡 ,  *薄膜 ,  ヘテロ接合 ,  プロフィルメータ ,  *遠心分離 ,  光電気化学 ,  表面構造 ,  被覆率 ,  ナノ材料
準シソーラス用語： 水分解 ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  *ナノフレーク ,  *溶媒蒸発 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 薄膜 ,  遠心堆積 ,  溶媒回収 ,  TiO_2/eC_3N_4 ,  光電気化学水の分解

分類 (2件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 遠心分離機 ,  溶媒蒸発 ,  フレーク ,  集合 ,  薄膜