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J-GLOBAL ID:201702221641317235   整理番号:17A1062904

ヒドロキシル化,エトキシル化とメチル化シリカ表面と窒素吸着等温線の原子論的モデル:分子動力学アプローチ【Powered by NICT】

Atomistic models of hydroxylated, ethoxylated and methylated silica surfaces and nitrogen adsorption isotherms: A molecular dynamics approach
著者 (5件):
資料名:
巻: 250  ページ: 158-169  発行年: 2017年 
JST資料番号: E0642C  ISSN: 1387-1811  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,ヒドロキシル化,エトキシル化とメチル化シリカ表面の現実的なモデルを開発した。いくつかのゾル-ゲル材料,化学センサ応用に用いる機能化したメチル化シリカを表している。官能基は入手可能な実験データを適合させるために調整した。シリカモデルの生成は,非晶質シリカのバルク,コアのイオン特性を維持しながら,表面で共有結合OH,OCH_2 CH_3またはCH_3機能を付与する切除後の意味している。全体で,シリカ表面の五モデルを構築した。ヒドロキシル化シリカのための多数のOH基はZhuravlev定数(α_OH=4.56OH nm~ 2)に適合するように調整し,異なるタイプのシラノールの再分配は,Si-OH,Si(OH)2と1%Si(OH)3の19%の80%で以前の研究と良く一致することが分かった。さらに,微傾斜および分離したヒドロキシル基の割合を区別した。非官能化(シリカOEt/OH_CEA)と官能化シリカ(シリカMe_2/OH_CEA)はそれぞれ2OEt nm~ 2及び3OH nm~ 2と3SiMe_2nm~ 2と2OH nm~ 2を含んでいた。さらに,分子動力学を用いた窒素吸着等温線をシミュレートした。表面挙動への官能化の寄与は重要でないことを示した。CPとVSHモデルの利用は,同様の結果が得られた。等温線は緩和関数の観点から分析した。N_2吸着と脱着は吸着速度定数0.031ps~ 1の一次機構を介して起こると予測された。シミュレートした曲線と実験BETの結果の間の一致は非常に顕著であった。このような表面は分子レベルで標的分子の相互作用の正確な研究を可能にするので,この研究は,化学センサの開発に寄与するであろう。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】
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分類 (5件):
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非金属化合物  ,  コロイド化学一般  ,  物理的手法を用いた吸着の研究  ,  炭素とその化合物  ,  固-液界面 

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