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J-GLOBAL ID：201702221667072148   整理番号：17A0637776

分光偏光解析法,RBS/ERDA,NEXAFSによる非晶質炭素膜の構造解析

Structural analysis of amorphous carbon films by spectroscopic ellipsometry, RBS/ERDA, and NEXAFS

著者 (7件)： Zhou XiaoLong (Graduate School of Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka-machi, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Suzuki Tsuneo (Extreme Energy-Density Research Institute, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka-machi, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Nakajima Hideki (Synchrotron Light Research Institute (Public Organization), 111 University Avenue, Muang District, Nakhon Ratchasima 30000, Thailand) ,  Komatsu Keiji (Graduate School of Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka-machi, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Kanda Kazuhiro (Laboratory of Advanced Science and Technology for Industry, University of Hyogo, 3-1-2 Koto, Kamaigori-cho, Ako-gun, Hyogo 678-1205, Japan) ,  Ito Haruhiko (Graduate School of Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka-machi, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan) ,  Saitoh Hidetoshi (Graduate School of Engineering, Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka-machi, Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 110  号： 20  ページ： 201902-201902-5  発行年： 2017年05月15日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *炭素材 ,  非晶質 ,  *炭素 ,  *薄膜 ,  偏光解析法 ,  Rutherford後方散乱 ,  放射線吸収・散乱分析 ,  XANES ,  *構造解析
準シソーラス用語： NEXAFS ,  *炭素膜 ,  弾性反跳検出分析 ,  *非晶質炭素 ,  分光偏光解析法

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： 分光偏光解析法 ,  NEXAFS ,  非晶質 ,  炭素膜 ,  構造解析