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J-GLOBAL ID：201702221855518980   整理番号：17A1093500

高エネルギー陽子照射により誘起されたNiTi形状記憶合金における原子再分布と多層構造【Powered by NICT】

Atom redistribution and multilayer structure in NiTi shape memory alloy induced by high energy proton irradiation

著者 (9件)： Wang Haizhen (Science and Technology on Materials Performance Evaluation in Space Environment Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Yi Xiaoyang (Science and Technology on Materials Performance Evaluation in Space Environment Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Zhu Yingying (Science and Technology on Materials Performance Evaluation in Space Environment Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Zhu Yingying (Liaoning Zhongwang Group Co. Ltd., Liaoyang 111003, China) ,  Yin Yongkui (Science and Technology on Materials Performance Evaluation in Space Environment Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Yin Yongkui (School of Public Health, Mudanjiang Medical University, Mudanjiang 157011, China) ,  Gao Yuan (State Key Laboratory of Nuclear Physics and Technology, Peking University, Beijing 100871, China) ,  Cai Wei (Science and Technology on Materials Performance Evaluation in Space Environment Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China) ,  Gao Zhiyong (Science and Technology on Materials Performance Evaluation in Space Environment Laboratory, School of Materials Science and Engineering, Harbin Institute of Technology, Harbin 150001, China)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 419  ページ： 91-97  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 3MeV陽子照射に曝されたNiTi形状記憶合金中の元素分布と表面微細構造を調べた。合金元素の再分布と三層の明瞭に目視可能な多層構造を陽子照射後のNiTi形状記憶合金の表面に観察された。最外層は主に正方晶構造を持つ柱状TiH_2相で構成され,内部層は主に体心立方オーステナイト相から構成されている。さらに,Ti_2Ni相,fcc構造を有し,最外部と内部層の間の遷移層として役立つ。上記現象は照射により誘起された高エネルギー陽子と偏析の選択的スパッタリングに起因した。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *陽子 ,  正方晶系 ,  偏析 ,  微細構造 ,  *陽子照射 ,  オーステナイト ,  *再分布 ,  スパッタリング ,  合金元素 ,  *多層構造 ,  *形状記憶合金
準シソーラス用語： 遷移層 ,  元素分布 ,  *チタンニッケル合金 ,  *高エネルギー , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： NiTi形状記憶合金 ,  陽子照射 ,  多層構造 ,  照射効果

分類 (2件)： 医用素材  (GA05040H) ,  その他の金属組織学  (WB01040Y)

タイトルに関連する用語 (8件)： 高エネルギー ,  陽子照射 ,  誘起 ,  NiTi ,  形状記憶合金 ,  原子 ,  再分布 ,  多層構造