文献

J-GLOBAL ID：201702221862849501   整理番号：17A1013152

絶縁基板上における自己集合膜の形態と成長機構:分子の柔軟性とエントロピーの役割

Morphology and Growth Mechanisms of Self-Assembled Films on Insulating Substrates: Role of Molecular Flexibility and Entropy

著者 (11件)： GABERLE Julian (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  GAO David Z. (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  SHLUGER Alexander L. (Univ. Coll. London, London, GBR) ,  SHLUGER Alexander L. (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  AMROUS Ania (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  BOCQUET Franck (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  NONY Laurent (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  PARA Franck (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  LOPPACHER Christian (Aix-Marseille Univ., Marseille, FRA) ,  LAMARE Simon (Univ. de Bourgogne Franche-Comte, Besancon, FRA) ,  CHERIOUX Frederic (Univ. de Bourgogne Franche-Comte, Besancon, FRA)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 8  ページ： 4393-4403  発行年： 2017年03月02日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： KCl(001)表面上における,1,3,5-トリ-(4-シアノ-4,4-ビフェニル)ベンゼン(TCB)と,同じ官能基を持ち,柔軟な1,4-ビス(シアノフェニル)-2,5-ビス(デシロキシ)ベンゼン(CDB)の吸着と自己集合について,非接触原子間力顕微鏡と密度汎関数法,分子動力学法によって評価された。CDBの自己集合構造は,ステップ端部から成長し,TCBのそれは,清浄なテラス上のアイランドとして,および,ステップ端部から成長している。それぞれの分子について,二量体形成とステップ端部付着のエネルギー計算によって,自己集合膜の形態と成長モードにおけるエントロピー損失の役割が議論される。

シソーラス用語： *絶縁体 ,  *自己集合 ,  *単分子層 ,  *結晶形態 ,  *薄膜成長 ,  *柔軟性 ,  *エントロピー ,  塩化カリウム ,  原子間力顕微鏡 ,  密度汎関数法 ,  分子動力学 ,  表面ステップ ,  表面テラス ,  二量体
準シソーラス用語： *自己集合単分子層 ,  非接触原子間力顕微鏡

分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

物質索引 (2件)： 1,3,5-トリス(4-シアノ-1,1′-ビフェニル-4′-イル)ベンゼン ,  1,4-ビス(4-シアノフェニル)-2,5-ビス(デシルオキシ)ベンゼン

タイトルに関連する用語 (7件)： 絶縁基板 ,  自己集合 ,  形態 ,  成長 ,  分子 ,  エントロピー ,  役割