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J-GLOBAL ID：201702222492447547   整理番号：17A1834177

フォトリソグラフィーを用いて作製したSiO_2クラッドの能動的および受動的フォトニック結晶ナノ共振器デバイス:フォトニック結晶ナノ共振器デバイスの将来大量生産に向けて【Powered by NICT】

SiO₂ clad active and passive photonic crystal nanocavity devices fabricated with photolithography: Toward future mass production of photonic crystal nanocavity devices

著者 (5件)： Daud Nurul Ashikin Binti (Department of Electronics and Electrical Engineering, Faculty of Science and Technology, Keio University, 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-Ku, Yokohama 223-8522, Japan) ,  Ooka Yuta (Department of Electronics and Electrical Engineering, Faculty of Science and Technology, Keio University, 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-Ku, Yokohama 223-8522, Japan) ,  Tabata Tomohisa (Department of Electronics and Electrical Engineering, Faculty of Science and Technology, Keio University, 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-Ku, Yokohama 223-8522, Japan) ,  Tetsumoto Tomohiro (Department of Electronics and Electrical Engineering, Faculty of Science and Technology, Keio University, 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-Ku, Yokohama 223-8522, Japan) ,  Tanabe Takasumi (Department of Electronics and Electrical Engineering, Faculty of Science and Technology, Keio University, 3-14-1, Hiyoshi, Kohoku-Ku, Yokohama 223-8522, Japan)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2017  号： CLEO-PR  ページ： 1-2  発行年： 2017年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 作製と受動および能動フォトニック結晶ナノ共振器デバイス,すなわち電気光学変調器,全シリコン光検出器とDeMUXフィルタの実証について述べた。これは将来の大量生産につながる可能性があることをフォトリソグラフィープロセスで作製した能動的および受動的フォトニック結晶ナノ共振器デバイスを初めて実証した。Copyright 2017 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All Rights reserved. Translated from English into Japanese by JST【Powered by NICT】

シソーラス用語： 光検出器 ,  *微小共振器 ,  *フォトリソグラフィー ,  *大量生産 ,  フィルタ ,  *フォトニック結晶
準シソーラス用語： 電気光学変調器 ,  *クラッド層 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： フォトリソグラフィー ,  作製 ,  クラッド ,  フォトニック結晶 ,  ナノ共振器 ,  将来 ,  大量生産