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J-GLOBAL ID:201702222740728059   整理番号:17A0842580

Au/(グラフェンドープPVA)/n-Siキャパシタにおける周波数依存電気特性と異常容量-電圧(C-V)ピークの起源

Frequency dependent electrical characteristics and origin of anomalous capacitance-voltage (C-V) peak in Au/(graphene-doped PVA)/n-Si capacitors
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巻: 28  号: 11  ページ: 7819-7826  発行年: 2017年06月 
JST資料番号: W0003A  ISSN: 0957-4522  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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Au/(7%グラフェンドープPVA)/n-Siキャパシタを作製し,室温で広い周波数範囲において複素インピーダンス分光法(ISM)を用いてその電気特性を調べた。十分に高い正電圧,即ち,蓄積領域における容量-電圧(C-V)プロットから,特に低周波数において,明瞭に異常なピークが明らかになり,この大きさは,周波数の増加と共に減少し,局所表面準位(Nss)及びシリーズ抵抗(Rs)のために負電圧へ移動する。パラメータに及ぼす表面準位及び分極効果の影響をなくすために,中間及び高周波領域において,拡散ポテンシャル(VD),ドナー濃度(ND),Fermi準位(EF),空乏層幅(WD)及び障壁高さ(ΦB(C-V))のようないくつかの主要パラメータを逆バイアスC-2-Vプロットから得た。容量-電圧(C-V)及びコンダクタンス-電圧(G/ω-V)特性に及ぼすNss)及びRsの影響を調べるために,Nss)及びRsの電圧依存プロファイルを,それぞれ,低周波数-高周波数容量(CLF-CHF)及びNicolianとBrewaの方法を用いて得た。実験結果から,C及びG/ωの2つとも,Nss)及びRsと(7%グラフェンドープPVA)中間層の影響によって特に空乏及び蓄積領域において,周波数と印加バイアス電圧に非常に敏感であることが分る。双極子及び界面分極は,低周波数では有効であり,双極子は,回転し捕獲する十分な時間があると考える。実験結果から,高誘電体(7%グラフェンドープPVA)中間層は,容量を増加させることを確認した。得られたε’の高い値(=593.2)は,ほとんど通常のSiO2の156倍,SnO2あるいはSi3N4の79倍,そして,TiO2の12倍であることが明らかである。従って,MISあるいはMOSキャパシタの容量値は,高いε’値を持つ界面層を用いることによって,大幅に増加し,広い範囲の電荷/エネルギー捕獲及び貯蔵応用に用いることができる。得られた実験結果から,(7%グラフェンドープPVA)を従来の二酸化シリコン(SiO2)を取り換える代替材料として用いることができると言える。
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